フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能です
『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能 ■アルカリタイプの水溶性洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
三若純薬研究所は、無機化学品の小分け・配合からスタートし、今では、 精密化学薬品などの受託製造販売、および、弊社オリジナルのレジスト剥離剤 や金属表面処理薬などを開発・製造しています。 私たちはこれまでも、そしてこれからも、安全第一、安定した高品質、 リーズナブルな価格設定、スピーディな対応を心がけ、「ものづくりの力」を 高めてまいります。
