2波長による紫外線とオゾンのダブル効果で有機汚染物質を除去！
『UVオゾンクリーナー』は、ダメージフリーの乾式洗浄法で、基板に付着 している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できます。 洗浄室内が0.02MPaの加圧状態に保持することができる安心の密閉構造です。 また、その他の機種では標準装備のオゾンキラー（オゾン分解装置）に 接続することで、外部へのオゾン漏れを防ぎます。 【特長】 ■超音波洗浄だけでは除去できなかった基板上の有機汚染物質を容易に除去 ■湿式洗浄で使用した有機溶剤も除去 ■基板表面に損傷を与えないで、有機汚染物質の除去が可能 ■薄膜の製膜が容易 ■大気圧で使用可能な、真空装置不要のドライクリーニング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■オゾンを漏らさない、密閉構造 ■ガス置換によるオゾン自動排気機構を搭載 ■ランプは溶解石英と合成石英から選択できる ■直管型と高密度・高出力グリッド型からUVランプが選択可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
薄膜関連装置（薄膜製膜前処理基板洗浄装置、薄膜作製装置、薄膜評価装置）の開発、製造、販売。バイオ関連分析受託。