原料容器、バルブ、配管、ヒーター等をユニット化！2種類の原料容器を選択可能
『TF-ALDシリーズ』は、東北大学における先端融合領域イノベーション 創出拠点形成プログラムの研究成果をもとに製品化した昇華原料対応の ALDユニットです。 4chの温調と最大2個の高耐久高速バルブを搭載。 シリアル通信もしくはETHER NET通信により全コントロールが可能です。 原料の蒸気圧および反応ガスの種類に応じて6種類のユニットをご用意 しております。 【特長】 ■原料容器、バルブ、配管、ヒーター等をユニット化 ■4chの温調と最大2個の高耐久高速バルブを搭載 ■シリアル通信もしくはETHER NET通信により全コントロールが可能 ■原料の蒸気圧および反応ガスの種類に応じて6種類のユニットをご用意 ■2種類の原料容器(大：約180ml、小：約60ml)を選択可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【原料ユニット】 ■低蒸気圧ユニット ・ガスの輸送にキャリアガスを使用 ■中蒸気圧ユニット ・シンプルなシングルバルブ構成 ・高速バルブを採用し最大10Hzで動作 ■高蒸気圧ユニット ・バルブ間にメジャーリングボトルを設置 ・バルブの開閉回数により供給量を制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
株式会社テクノファインでは、真空成膜プロセス装置をはじめとする半導体製造装置、プラズマ対応基板ステージ、分析装置など、お客さまのニーズに応じた装置の仕様提案、設計、製造をおこなっております。