ノンパターン透明・半透明ウェーハ表面パーティクル装置の標準機！
シリコンウェーハだけでなく、ダブルポリッシュの透明ウェーハ、シングルサイドポリッシュの半透明ウェーハ（裏面梨地ウェーハ）も測定可能。 自動搬送仕様とマニュアル搬送仕様が選択できます。 顕微鏡観察オプションで測定後レビューができます。
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基本情報
検出感度：0.1μm (ベアシリコン） レーザ波長：405nm ウェーハサイズ：2－8インチ（角基板200mmまで） （12インチ測定は制限があります。お問合せください。） 外観寸法：(W)1420 x (D)1200 x (H)1807mm 用力：（電気）100V、（圧空）0.4MPa以上 6mmワンタッチ接手、(バキューム） -70kPa以下 6mmワンタッチ接手 -40kPa以下 8mmワンタッチ接手。
価格情報
お問合せください。
価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
用途／実績例
ウェーハ洗浄後のパーティクル確認。 半導体プロセス装置チャンバーのコンタミ確認（プロセスモニター）。 ウェーハ・基板の出荷確認。 ウェーハ・基板の受け入れ検査。 成膜ウェーハの出来栄え検査。
カタログ（1）
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企業情報
当社は、平成６年に半導体、液晶製造工程での検査及び試験製造装置開発、製造を目的に設立され、現在は半導体用ウェーハ検査装置を中心に事業展開を行っており、幅広いお客様に当社検査装置を導入頂いております。近年は省電力化や次世代通信に対応する化合物ウェーハのパーティクル検査モデルを開発・販売し、次世代半導体検査装置への展開を進めております。今後も魅力ある製品をご提供できるよう努力を続けてまいります。