低温成膜が可能なGD装置を多数ご用意しております！
当社では、ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから 対向する基材へ噴射堆積される『ガスデポジション装置』を 取り扱っております。 低温成膜が可能で、活性なナノ粒子の膜形成に利用いただけます。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。 【装置仕様例】 ■ナノ粒子作製部 ・高周波誘導加熱：5kw ■膜形成部 ・ノズル径＆本数：φ0.3mm、1本 ・基材駆動：X70mm×Y70mm×Z40mm Θ90度 ■AGD機構付属 ※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
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基本情報
【装置仕様例】 ■ナノ粒子作製部 ・高周波誘導加熱：30kw ■膜形成部 ・ノズル径＆本数：φ1mm、1本 ・基材駆動：X300mm×Y150mm×Z30mm Θ90度 ■高純度Heガスリサイクルシステム付 ※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
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企業情報
当社は、数十年の長期にわたり、ナノ粒子および微粒子のノズル噴射による 膜形成技術の研究開発を進めてきました。 エアロゾル化ガスデポジション装置をはじめ、ガスデポジション装置および ナノ粒子関連装置(カーボン系を含む)の事業を柱とし、それら装置の 製造・販売を行なっています。