N2ガスパージで光輝処理が可能な真空熱処理炉
『NVPTシリーズ』は、真空パージ後N2ガスを大気圧直下まで封入し 対流加熱を行うため、酸素、水分などの存在がなく光輝処理が可能な 真空パージ雰囲気焼戻し炉です。 本製品はオプションで高真空仕様（油拡散ポンプ装備）、高温仕様を ご用意しております。 【特長】 ■温度分布性能の向上のため、シール性の優れたバンク構造、 ヒータの円周配置、3分割制御 ■セラミックファイバーを使用した円筒形加熱室、対流加熱/冷却ファン、 熱交換器を容器内に配置 ■加熱方式は対流加熱以外に真空加熱も可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【基本性能】 ■操業温度常用（最高）：150℃～700℃（750℃） ■保持温度精度：±5℃ ■到達圧力：1.3Paより高真空 ■排気速度：大気圧から7Paまで15分以内（脱ガス、空炉、常温、N2ガスパージ状態より排気） ■昇温時間：常温から700℃まで40分以内（空炉、真空、制御T/C温度） ■冷却時間：700℃から100℃まで20分以内（空炉、N2ガス、87kPa、ガスファン冷却） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■焼戻し ■焼なまし ■時効処理 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、IHIグループの熱・表面処理ビジネスの中核企業として、 お客さま価値の向上を第一に事業活動を行ない、真空熱処理装置及び 新素材製造装置分野において、国内トップクラスシェアを誇るまでに 成長を果たしてきました。 製造拠点としては、石川島岩国製作所を前身とする岩国事業所と、 日本ヘイズを前身とする各務原事業所があり、さらに各務原事業所には 熱処理テクニカルセンターを備え、装置がもたらすプロセスの研究開発と、 お客さまとのオープンなイノベーションの場として、拡充を図っております。