遷移領域での高速成膜が可能!発光状態を、リアルタイムに、連続してモニターし記録
『EMICONシリーズ』は、遷移領域での高速成膜を実現した プラズマエミッションモニターです。 高分解能による測定とコントロールのほか、ノイズを差引いた正確な測定と コントロールが可能。 発光状態を、リアルタイムに、連続してモニターし記録するプラズマ発光の リアルモニターを搭載し、Lineのintegral(積分)測定によるプロセスの PIDコントロール/1000チャンネル以上の納入実績があります。 【特長】 ■遷移領域での高速成膜 ■高分解能による測定とコントロール ■ノイズを差引いた正確な測定とコントロール ■プラズマ発光のリアルモニター ■発光の同定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【プロセスコントロール】 ■リアクティブスパッタプロセス ・遷移領域での高速で均一な成膜 ・レシピ切替だけで他のプロセス制御に変更 ■エッチングプロセス:エンドポイントの測定と外部出力 ■プロセス異常の検出:リーク検出と外部出力 ■トラブルの原因調査と解決:記録した正常時のデータと比較し、短時間で原因を断定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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