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半導体製造装置用 面内温度分布測定ツール『T/C ウエハー』

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最終更新日:2021年09月03日

株式会社ミヤビインターナショナル
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温度変化・温度分布をリアルタイムにロガーに伝達!温度特性を正確に把握することができます

『T/C ウエハー』は、ウエハの実温をリアルタイム測定できる 半導体製造装置用の面内温度分布測定ツールです。 装置側の設定温度のみではなく、実際にウエハにかかる温度分布特性を 知ることでプロセス温度設定・制御の簡略化、膜厚分布均一性の向上に貢献。 独自の埋め込み技術により、温接点位置の固体差も低減し、読み込み温度の 高い信頼性が得られます。 【特長】 ■ウエハの実温をリアルタイム測定 ■読み込み温度の高信頼性 ■プロセス温度設定・制御の簡略化、膜厚分布均一性の向上に貢献 ■独自の埋め込み技術により、温接点位置の固体差を低減 ■読み込み温度の高い信頼性が得られる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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半導体製造装置用 面内温度分布測定ツール『T/C ウエハー』

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基本情報

【仕様(一部)】 ■ウエハ  ・サイズ:3~12 インチ(角型ガラス基板等も対応可)  ・種類:ベアシリコン(標準)、その他膜付など特殊仕様はユーザー支給品にて対応 ■測定点数:1~34点(埋め込み位置は任意でご指定可能、但し、ウエハエッジからの最小距離は5mm以上) ■コネクタ:各種対応可(Dタイプマルチコネクタ、2ピンミニコネクタ、Y型ターミナル、セラミックコネクタ、素線のみ、など) ■納期:通常4週間以内 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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用途/実績例

【アプリケーション】 ■PVD装置、CVD装置、拡散炉、ホットプレート、フォトレジストなど (プラズマ波が直接当たる環境下での使用は不可) ※液晶・太陽電池製造装置向けは別途お問合せ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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半導体製造装置用 面内温度分布測定ツール『T/C ウエハー』

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