【70K～525K】粉体X線回折用クライオスタットChimera

【80Kまで冷却可能な液体窒素タイプ吹付低温装置！低液体窒素消費量＆高メンテナンス性！】 Oxford Cryosystems社製Cryostream 800シリーズは、80Kまで冷却可能な液体窒素タイプの吹付低温装置です。500、600、700に続く、Oxford Cryosystems社製Cryostreamの第4世代です。 【主な特徴】 ■温度範囲：80～400K（Cryostream 800 Plusの場合80～500K） ■0.1Kの優れた温度安定性 ■およそ20分で100Kに到達 ■60Lの液体窒素で最長4日間の連続運転 ■優れたメンテナンス性 ■さまざまなX線システムに対応 【主な仕様】 ■温度範囲：80～400K（Cryostream 800 Plusの場合80～500K） ■温度安定性：0.1K ■冷却ガス流量：5L/分または10L/分 ■100K到達温度：約20分 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

【乾燥空気を用いて170Kまで冷却可能な吹付低温装置！小分子の冷却に最適！】 Oxford Cryosystems社製Smartstreamは液体窒素や窒素ガスを使用せず、乾燥空気を使用して170K（-103°C）まで冷却可能な吹付低温装置です。メンテンナスもほとんど必要としません。小分子結晶の冷却に最適なソリューションです。 【主な特徴】 ■温度範囲：170～400K（Smartstream Plusの場合170～500K） ■0.1Kの優れた温度安定性■ ■乾燥空気を使用（液体窒素や窒素ガスは不要） ■優れたメンテナンス性 ■さまざまなX線システムに対応 【主な仕様】 ■温度範囲：170～400K（Smartstream Plusの場合170～500K） ■温度安定性：0.1K ■冷却ガス流量：5L/分 ■シュラウドガス流量：10L/分 ■170K到達温度：約50分 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

【ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプ吹付低温装置！】 Oxford Cryosystems社製N-Helixは、液体ヘリウムを使用せずに、ヘリウムガスを用いて28Kまで冷却可能な吹付低温装置です。最小限のガス消費で、経済的に動作するよう設計されており、一般的なヘリウムガスボンベで約16時間～20時間運転することができます。マニホールドを使って複数のボンベを連結することで、長時間の実験が可能です。 【主な特徴】 ■温度範囲：28～300K ■0.3Kの優れた温度安定性 ■およそ45分で100Kに到達 ■およそ75分で30Kに到達 ■ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプ 【主な仕様】 ■温度範囲：28～300K ■温度安定性：0.3K ■ヘリウムガス流量：7.5L/分（内部ガス流と外部ガス流の合計） ■窒素ガス流量：8L/分（内部ガス流と外部ガス流の合計） ■100K到達温度：約45分 ■30K到達温度：約75分 ■コールドヘッド重量：10.8kg ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

【粉体X線回折用温度可変チャンバー】 Oxford Cryosystems社製Chimeraは温度範囲70K～525K、温度安定性0.1Kの高性能な粉体X線回折用温度可変チャンバーです。Chimeraは従来の冷却加熱チャンバーとは異なり、Oxford Cryosystems社製シングルステージGM冷凍機を使用していることから、液体窒素を必要としません。 【主な特徴】 ■温度範囲：70～525K ■0.1Kの優れた温度安定性 ■温度ランプレート1～360K/hour ■およそ35分で室温から100Kに冷却 ■およそ40分で室温から525Kに加熱 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。