マイクロナノインプリントプロセスのトータルコストを削減することで少量多品種に適合させる
ナノインプリントは、数十～数百nmの微細な凹凸形状で形成された モールドを樹脂材料に押し付けて形状を転写する、機械的な方法による ナノ構造加工技術です。 フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要であり、 複数の工程を1工程に集約可能。 製造コストが安価であることなどが利点として挙げられます。 このインプリント技術をナノ領域だけでなくマイクロ領域まで 適応することにより、広範囲の分野で適用（研究開発）されています。 【ナノインプリントの利点】 ■フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要 ■複数の工程を1工程に集約可能であるため、製造コストが安価 ■10nm程度の解像度を有しており、3次元構造の凹凸が形成された モールドにより、一度のプロセスで3次元構造が転写可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【適用（研究開発）されている分野】 ■光学関連：反射防止、偏光、マイクロレンズアレイ、回析格子 ■電子デバイス：半導体デバイス、太陽電池 ■バイオ・化学：マイクロ流路、バイオチップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
用途／実績例
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企業情報
装置の高精度化・小型化・省コスト化を提案致します 【お知らせ】 このたび業務拡充に伴い事務所を下記住所へ移転する運びとなりました。 静岡駅からのアクセスも良く、クリーンブースも常設しています。 静岡市葵区平和1丁目1-23
