シリコン光集積回路のプロトタイプ作製と小規模製造ならお任せください
当社は、Imec社のシリコンフォトニクス専用ファウンドリとの提携により、 シリコンフォトニクス集積回路のプロトタイプ作製および小規模製造を 行うためのワンストップサービスを提供しています。 高度な知識・専門性・能力を持つ当社がお客様の成功をサポートいたします。 フォトニクスに関してお困りごとがございましたら、是非ご相談ください。 【主要技術のパラメータ】 ■基板：220nm Si/2000nmBOXを備えたSOI ■193nmリソグラフィーによる3-レベルSiおよび1-レベルPoly-Siパターニング ■6-レベルのSiシリコンドーピングと2-レベルのGeドーピング ■Ge-on-Si遠隔プラズマ励起化学蒸着（RPCVD）エピタキシー ■2-レベルのCu相互接続+Alボンドパッド ■エッジカップリング用のSi深堀エッチング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【プロトタイピングサービス：iSiPP50G（アクティブ）及びパッシブ+】 ■アクセスモデル：MPW ■機能：基本（23モジュール） ■納品数 ・1ブロック（5.15mm×5.15mm）以上の場合は20個 ・ハーフブロックまたは1/4ブロックの場合は10個 ■ランのタイミング：固定（iSiPP50G：年に2回、パッシブ+：年に1回） ■最小面積：1/4ブロック（2.5mm×2.5mm） ■計測/テスト：標準テスト ■カスタマイズ：限定的（空き状況により） ■費用分担：マスクとプロセス ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、光学システムやフォトニクス技術に関する長年の専門知識を活かし、 フォトニクスデバイス及びシステム設計・作成のための解析ソフトウェア及び ファウンダリサービス等のプロフェッショナルサービスを提供しています。 先進のテクノロジー・ソリューション・プロバイダーと提携し、トップクラスの 製品及び技術をお届けすることで、独自のワンストップ・フォトニクスサービスを 提供しています。