研磨盤の面全体を均一に使用！「フリーラップ方式」と「ガイドリング方式」の2通りの研磨方法で作業が可能
『コロ式強制駆動揺動保持ユニット』は、eタイプの研磨装置 （MA-200e、MA-300e、MA-400e）に取り付けできる製品です。 試料ホルダーを強制的に回転させることで、研磨工程を定量的に 管理することが可能。 また、試料ホルダーが揺動されることにより研磨盤の面全体を均一に 使用し平坦度が維持され、サンプル加工面自体の平坦度も改善します。 【特長】 ■eタイプの研磨装置（MA-200e、MA-300e、MA-400e）に取り付けできる ■研磨工程を定量的に管理することが可能 ■サンプル加工面自体の平坦度も改善 ■2通りの研磨方法 ・研磨盤の平坦度に倣う「フリーラップ方式」 ・平行精度の高い「ガイドリング方式」 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【SD-200の仕様】 ■対応研磨装置：MA-200e ■最大試料ホルダー外径：Φ108mm ■最大揺動角度：13° ■モーター可動部：試料ホルダー強制回転用動輪部、アーム揺動部 ■調整可能項目：試料ホルダー強制回転用動輪部回転数、アーム揺動部揺動幅 【SD-400の仕様】 ■対応研磨装置：MA-300e/ MA-400e ■最大試料ホルダー外径：Φ165.2mm ■最大揺動角度：14.2° ■モーター可動部：試料ホルダー強制回転用動輪部、アーム揺動部 ■調整可能項目：試料ホルダー強制回転用動輪部回転数、アーム揺動部揺動幅 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
■加工実績のある材料例 半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など) 光学材料(石英ガラス、サファイア、蛍石レンズ、スピネル、リン酸塩ガラス、ホウ酸リチウム、アクリル樹脂(、CLBO、YiG、GGG …など) セラミックス材料(アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、フェライト …など) 金属材料(鉄鋼材料、ステンレス、銅、金、銀、白金、アルミニウム、チタン、モリブデン …など) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
弊社は長年に渡り培ってきた技術的ノウハウを用いて、精密加工に適した研磨装置、切断機、スクライバーなどを製造してきました。 特に半導体やセラミックス、光通信などの最先端技術分野において多くの納入実績がございます。 標準仕様の装置の他にも、お客様のニーズに合わせた特注仕様品の設計・製造も承っております。 年々上がり続ける精密加工への精度要求、多様化するニーズに応えるべく、独創的なアイデアと技術を持って邁進してまいります。