800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能！高効率・高品質な成膜が可能なパルスレーザー成膜装置
『GLAZEシリーズ』は、先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置です。 ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能。 800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能で、 マグネトロンカソードも搭載が可能です。 【特長】 ■先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置 ■ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能 ■800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能 ■マグネトロンカソードも搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。 ●主な業務内容 半導体製造装置の中古買取、リファビッシュ(再生)、販売、立上業務 半導体製造ラインの構築及びコンサルタント FPD製造装置の中古買取、リファビッシュ（再生)、販売、立上業務 FPD製造ラインの構築及びコンサルタント 半導体製造設備及びFPD製造設備の受託開発・製造・販売 各種装置部品の販売 海外製製造装置の代理店販売