卓上小型サイズの高真空蒸着装置です。 カーボン蒸着・金蒸着・アルミ蒸着・クロム蒸着などが簡単に実現可能です。
★VE-2013はVE-2030（弊社製）のコンセプトを継承した簡易型真空蒸着装置です。 ★TMPを筐体内に内蔵したコンパクトな筐体を実現。デスクトップ型なので設置場所を取りません（RPは床置き）。 ★小型TMP＋RPの排気系により清浄高真空の蒸着装置を低価格で提供。 ★排気操作はタッチパネルスイッチのON／OFFのみで全自動制御。 ★タングステンバスケットの使用で金・アルミニウム・クロム・銀などの蒸着が出来ます。 ★カーボン蒸着はφ0.5mmの専用カーボンを蒸着するクランプ蒸着銃タイプを使用。 （φ5mmカーボンロッドは使用出来ません。）
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基本情報
1. ヒーター電極 ：1対（2対タイプはオプション。） 2. 蒸着対象金属 ：金・アルミ・クロム・銀・カーボン その他 3. 試料ステージ ：直径72mm 4. 蒸着源－試料間隔 ： 0mm～140mm 5. チャンバーサイズ ：内径160mmｘ深さ235mm 6. 電極間電圧／電流 ： AC15Ｖ、 0～30A タッチパネル表示 7. 排気系：TMP67 ℓ／sec ＋RP 50ℓ／min 8. 真空度測定：タッチパネル表示 フルレンジ真空計 9. 到達真空度：5×10-4 Pa 以下 10. 安全対策 ：系統別サーキットプロテクタ、過剰負荷を自動でブロック 11. 装置サイズ：W428× D430 × H550 (mm) 38Kg 12. 電源 ：単層AC 100 V, 15A アース線付３芯プラグ使用
価格情報
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価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
用途／実績例
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企業情報
スパッタ装置、蒸着装置、プラズマ照射装置、CVD装置、真空コンポーネントを製造しております。 電子顕微鏡試料作成用の前処理装置や研究開発機関向けの小型真空装置をラインナップしております。 私たちは、最先端技術研究開発分野で活躍されている方々の必要な機器開発を、早く・廉く供給し、実験過程で逐次改良､改造を加えて開発のサポートをして行くこともわが社の如く小回りの利く会社の任務と考えています。 半導体、バイオ、環境、ナノテク分野の新技術開発に必要な実験器具・装置の開発、及び新技術開発の最先端解析道具としての電子顕微鏡試料作製に関わる装置の開発、製品化、販売、サービスを行っております。