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導電性ダイヤモンド 受託成膜

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最終更新日:2026年06月18日

DIAM株式会社
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従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です

当社では、導電性ダイヤモンド コーティングサービスを行っております。 シリコン、ニオブ、タングステン、モリブデンなどの基板の上にダイヤモンド膜をコーティングする受託成膜をこなっています。 ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、強度等の 特長を保持したまま様々な用途に使用可能。 また、電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が 優先できるため、従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です。 【用途範囲】 ■電解合成 ■電気分解 ■センサー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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導電性ダイヤモンド 受託成膜

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基本情報

【成膜仕様】 ■サイズ:Φ150mm(最大) ■基板:Si,SiC,Nb,Mo,Ti等 ■膜厚:~15μm ■結晶:多結晶ダイヤモンド ■抵抗率:10^(-2)~10^(-3)Ω・cm ■タイプ:P型 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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当社は、CVDによる導電性ダイヤモンドの合成・製造を行うメーカーです。 長年にわたる成膜条件を軸とした研究を行い、耐久性、高い導電性、 大面積での安定的な成膜ノウハウを確立しました。 高い硬度や屈折率、熱伝導性、化学的安定性など特異な性質を有する ダイヤモンドは、テクノロジーの進化や環境負荷低減へ対応できる素材として、 社会的ニーズが飛躍的にかつ急速に増大しています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

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