フォトレジストの塗布、露光、現象の3つのステップで構成されます。
リソグラフィとは、半導体製造においてウェハに回路パターンを描く 工程のことです。 この工程は、半導体の性能やコストに大きな影響を与えるため、 常に技術革新が求められています。 現在主流となっているリソグラフィ技術は、「液浸式アーゴンフッ素(ArF) エキシマレーザー」です。 【基本原理】 ■フォトレジストの塗布 ■露光 ■現象 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
夏目光学株式会社は、光学専門メーカーとして光学素子『シリンドリカルレンズ』や『球面レンズ』『プリズム』などを取り扱っております。また、この他にも各種画像処理装置の開発・設計・販売を行っております。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。