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フジミ 第26回 nano tech[東京]へ出展のお知らせ

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最終更新日:2026年09月24日

株式会社フジミインコーポレーテッド
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【12/16~18 開催】第26回 nano tech[東京]へ出展のお知らせ

当社は 2026年12月16日(水)~18日(金)までの 3 日間、 東京ビックサイト(西・南ホール)にて開催されます 「第26回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 nano tech に出展致します。 ブースでは当社が開発している様々な機能性パウダーを展示致します。 ぜひ当社ブースにお越しくださいませ。 ◆第26回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 nano tech◆ 会期 :2026年12月16日(水)~18日(金) 開場時間 : 10:00~17:00   会場 、当社小間位置: 東京ビックサイト 南3ホール・小間番号4S-Q04 nano tech 第26回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 公式HP : https://www.nanotechexpo.jp/outline2026dec.html nano tech展[東京]の入場には来場登録が必要です。 以下のリンクより来場者バッジを事前にご入手の上、ご来場くださいませ。 (近日中に事前登録ページ公開予定)

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nano

フジミ 第26回 nano tech[東京]へ出展のお知らせ

nano tech2026.png
nano tech2026.png 丸み状炭化ケイ素_イプロス用サムネイル.png 酸化亜鉛_イプロス用サムネイル.png 3Dプリンタ向け超硬粉末_イプロス用サムネイル.png リン酸チタン_イプロス用サムネイル.png GC#40000_イプロス用サムネイル.png
  • 【当社HP】製品紹介はこちら
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フジミインコーポレーテッドは、1950年の創業以来、 分級技術などを活かした精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして独自の歩みを続けてきました。 蓄積されたノウハウと研究開発力から生まれた製品の数々は、光学レンズ用研磨材から出発し、 シリコンウェハーに代表される半導体基板の鏡面研磨、半導体チップの多層配線に必要なCMP(化学的機械的平坦化)、 コンピュータ用ハードディスクの研磨など高精度が求められる先端産業に欠かせぬものとなっています。 最近では、LED・ディスプレイ・パワーエレクトロニクス用部品の表面加工分野や パウダー技術を活かした応用分野への研磨・研削材の開発にも積極的に取り組んでおります。 また、鉄鋼、航空機および半導体等さまざまな業界の溶射用途向けに溶射材をご使用頂いております。

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