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ウエハ型セラミックタイプ(サファイア基板)変色の温度依存性

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最終更新日:2024年11月19日

株式会社サクラクレパス PI事業部
株式会社サクラクレパス PI事業部
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Arプラズマでは変色色差は小さく、O2プラズマでは変色色差が大きくなる傾向

ウエハ型セラミックタイプ(サファイア基板)変色の温度依存性の 技術データについてご紹介いたします。 ウエハ型セラミックタイプを400℃加熱しながらプラズマ処理した場合、 Arプラズマでは変色色差は小さくなる傾向が見られ、O2プラズマでは 変色色差が大きくなる傾向が見られました。 変色の温度依存性はあるが、400℃でもインジケータとして使用可能である ことを確認したという結果になりました。 【Ar/O2プラズマ処理 概要】 ■方式:CCP(RF) ■初期真空度:5.0×10^-4Pa ■RFパワー:50W ■ガス流量:40sccm ■処理ガス圧:10Pa ■処理時間:10分 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 ※画像1枚目がArプラズマ処理、2枚目がO2プラズマ処理。

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ウエハ型セラミックタイプ(サファイア基板)変色の温度依存性

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株式会社サクラクレパスは、大阪市中央区森ノ宮に本社を置く総合文具メーカーです。 創業当初から長年培った調色技術と、描画材料・筆記具・印刷インキの配合設計・工程設計で培われた界面化学分野の総合技術がサクラクレパスのコア技術です。 熱・光などのエネルギーや、滅菌・殺菌用ガスなど特定化合物との化学反応で変色するユニークなインキも開発しています。 また、チューブ類、マーカー・サインペン容器、ボールペン容器などのプラスチック成型・精密金属加工およびインキ充填も自社工場で行っています。

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