高真空で表面処理する実験装置を研究機関の表面処理工程に導入した事例！
高性能新規レーザの開発へ「実験用高真空装置」を製造した実績について ご紹介いたします。 高真空で表面処理する実験装置を研究機関の表面処理工程に導入。 真空チャンバーの材質はステンレス製で、容量が約26.5Lになっており、 サイズは、幅400mm×奥行290mm×高さ340mm。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【実績概要】 ■真空チャンバー 材質：ステンレス製 ■真空チャンバー サイズ：幅400mm×奥行290mm×高さ340mm ■真空チャンバー 容量：約26.5L ■到達真空度：1×10-4Pa以下 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ＋ターボ分子ポンプ ■制御/操作：手動(オプションで自動可) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社では、CVD、スパッタ、蒸着などの成膜装置から大気圧プラズマ、 加熱/乾燥炉など真空/大気圧問わず実験装置から生産装置まで、お客様の 要望に合わせて装置を設計、製造致します。 また、CVD法の一種であるプラズマCVD法によりDLC膜を生成します。 a-SiCやSiOxといったSi系膜の作成も可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
