半導体の洗浄工程で使用されているSPM技術の代替可能な技術を実現！
半導体の洗浄工程におけるフォトレジストの除去についての 導電性ダイヤモンド技術解決事例をご紹介いたします。 フォトレジストの除去は1ウェーハで数十回以上繰り返される 工程で、これまではSPM溶液を大量に必要とし、その廃液処理も 課題となっていました。 電解硫酸の強力な酸化力はフォトレジストを二酸化炭素と水に 分解でき、還元された硫酸は循環して再度過硫酸として繰り返し 使用することができます。 【事例概要】 ■課題：SPM溶液が大量に必要、廃液処理も課題 ■効果 ・電解硫酸の強力な酸化力はフォトレジストを二酸化炭素と水に分解 ・還元された硫酸は循環して再度過硫酸として繰り返し使用 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、CVDによる導電性ダイヤモンドの合成・製造を行うメーカーです。 長年にわたる成膜条件を軸とした研究を行い、耐久性、高い導電性、 大面積での安定的な成膜ノウハウを確立しました。 高い硬度や屈折率、熱伝導性、化学的安定性など特異な性質を有する ダイヤモンドは、テクノロジーの進化や環境負荷低減へ対応できる素材として、 社会的ニーズが飛躍的にかつ急速に増大しています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
