「ユーセントリック機構」を搭載した、520mm×520mmまでの大型基板対応で不具合の発見・解析を支援する高倍率斜めCTシステム
大型基板の内部を非破壊で詳細に観察したい。 そんなお悩みを、XVA-160□520が解決します。 ✓ 大型ガラス/プリント基板の非破壊解析がしたい ✓ 従来のX線装置では対応できなかった大型ワークのCT観察 ✓ 大型ワーク内部の微細構造を観察したい 特長1: 業界最大クラスの観察エリア 最大視野: 520mm × 520mm 最大搭載サイズ: 630mm × 630mm 従来では対応が難しかった大型ワークの非破壊解析が可能になります。 特長2: 超高分解能を実現するナノフォーカスX線発生器搭載 最小フォーカスサイズ: 250nm 最大幾何学倍率: 2,000倍 特長3: 広範囲×高倍率の斜めCT技術 独自技術のユーセントリック機構により、ディテクタ傾斜時・ステージ回転時も着目ポイントを中央に捉え続け、 ステージ上どこでも斜めCT撮影が可能です。 そのためXVA-160□520では、斜めCT撮影を広範囲（520mm × 520mm）で行うことができます。 また高解像度を生み出す再構成アルゴリズムにより、広範囲×高倍率の斜めCT撮影を実現します。
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基本情報
標準機能 XVA-160□520には、高精度観察を支える充実の機能が標準装備されています。 ■ ナノフォーカスX線発生器(160kV) ■ フォーカスサイズ切り替え機能(250nm/800nm) ■ フラットパネルディテクタ ■ ユーセントリック機能 ■ 最大幾何学倍率 2,000倍 ■ 大型ステージ搭載(520mmサイズ対応) ■ 可視光マッピング機能 ■ 光軸・回転中心自動調整機能 ■ フォーカス自動調整機能 ■ 自社開発制御ソフトウェア"Jasper" オプション機能 さらに解析の幅を広げる、オプション機能もご用意しています。 ■ 3次元斜めCT機能 ■ 3次元斜めCT機能[Advance] ■ 直交CT機能 ■ 直交CT機能[Advance] ■ 閲覧・演算用PC（PC2台体制） ※詳しくは、弊社ホームページのお問い合わせフォームでお問い合わせください。
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納期
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企業情報
当社は、先進のX線デバイス・高精度ステージ・画像処理技術をコアとした 非破壊検査装置の開発と製造をおこなっています。 任意の着目位置を中心に回転観察が可能なユーセントリックステージを用いた XVAシリーズは、ナノレベルでの実装解析や製造ラインでの 高度な品質保証を求めるお客様のニーズに的確にお応えしています。 また、プリント板半田付け実装の検査のみならず、半導体製品や 各種電子デバイス、車載部品・自動車関連、素材・複合材料、メディカル関連といった幅広い分野の 研究、開発、製造を支援しています。
