半導体製造の歩留まり向上に貢献します！
半導体業界では、製品の歩留まり向上が重要な課題です。製造プロセスにおける金属不純物やパーティクルの混入は、製品の品質劣化や歩留まり低下につながる可能性があります。当社製品は、これらの課題に対し、吸着剤やフィルター技術を用いて、金属濃度をppbレベル、粒径100nm程度までのパーティクル数を管理することで、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の精製 ・洗浄液のパーティクル除去 ・フォトレジスト等の材料管理 【導入の効果】 ・歩留まりの向上 ・製品品質の安定化 ・不良率の低減
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【特長】 ・半導体材料製造における吸着剤およびフィルター技術 ・ICP-MSおよび液中パーティクルカウンターによる金属濃度とパーティクル数の管理 ・低メタル化：最大処理量15L、定量下限200ppt（PGMEA） ・低パーティクル化：最大処理量18L、PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減 【当社の強み】 福井キヤノンマテリアル株式会社は、化学技術を通して、お客様の日常を快適にすることを目指し、優れた技術で人と人、人と化学のより良い関係を築いてまいります。
価格帯
納期
用途／実績例
低メタル化実績：金属濃度2000ppbの液を50ppbまで低減 低パーティクル化実績：PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減
カタログ（3）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
福井キヤノンマテリアル株式会社は、化学技術を通して、お客様の日常を 快適にすることを目指し、優れた技術で人と人、人と化学のより良い関係を築いてまいります。 「共生」の理念のもとに、地球環境と企業活動の調和を図りながら、顧客・社員ならびに地域社会の期待に応えられるように努め、お客様のニーズに応える製品を革新的な技術や発想から創造し、永続的な発展を目指します。
