半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、薄膜の品質が重要視されています。特に、Hf（ハフニウム）ターゲットを用いた薄膜形成においては、ターゲット材の純度と均一性が、薄膜の特性を大きく左右します。不純物の混入や結晶粒径のばらつきは、薄膜の信頼性低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高品質な薄膜形成をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによるHf薄膜の作製 ・高性能デバイス製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善
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基本情報
【特長】 ・純度≧4N5 ・結晶粒径が均一(80μm未満) ・ターゲット内部欠陥なし 【当社の強み】 当社は、高品質なターゲット材とボンディング技術を提供しています。長年の経験を持つエンジニアと緊密な協力関係を築き、お客様のニーズに合わせた最適な製品・サービスを提供します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■光学・光電分野 ■医療・生体材料 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。 また、弊社はジルコニウムターゲット（Zr）、ハフニウム（Hf）、タングステン（W）、タンタル（Ta）などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。 お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。 お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。
