高純度Hfターゲットで、実験の信頼性を向上。
研究機関における実験では、材料の純度と均一性が実験結果に大きく影響します。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が重要であり、不純物の混入や均一性の欠如は、実験の再現性を損なう可能性があります。当社のハフニュウム(Hf)ターゲットは、高純度と均一性を実現し、実験の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜形成実験 ・材料特性評価実験 ・スパッタリング実験 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・実験の再現性向上 ・高品質な薄膜の形成
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基本情報
【特長】 ・純度≧4N5 ・結晶粒径が均一(80μm未満) ・ターゲット内部欠陥なし 【当社の強み】 当社は、高品質のターゲット材とボンディング技術で、お客様の事業を次のステージへ導きます。世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場との連携により、高品質でコストに優れた製品・サービスを提供します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■光学・光電分野 ■医療・生体材料 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
