ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5。薄膜形成の品質向上に貢献。
半導体業界において、薄膜はデバイスの性能を左右する重要な要素です。薄膜の品質は、ターゲット材の純度、緻密性、均一性に大きく影響を受けます。不純物の混入や密度ムラは、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のニッケル(Ni)ターゲットは、高純度かつ緻密性に優れており、高品質な薄膜形成を可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによる金属膜形成 ・NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi合金薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善
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基本情報
【特長】 ・高純度（2N～4N5対応） ・緻密性（密度が高く、結晶粒が均一） ・ニッケル合金にも対応（NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTiなど） ・優れた加工性能（プレーナー、ロータリ、異型ターゲットなど） 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を支援します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■光学コーティングとディスプレイ業界 ■磁気記憶とセンサー ■太陽電池と太陽光発電産業 ■装飾と工具コーティング ■化学触媒と燃料電池 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
