ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5。薄膜形成の品質向上に貢献。
半導体業界において、薄膜はデバイスの性能を左右する重要な要素です。薄膜の品質は、ターゲット材の純度、緻密性、均一性に大きく影響を受けます。不純物の混入や密度ムラは、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のニッケル(Ni)ターゲットは、高純度かつ緻密性に優れており、高品質な薄膜形成を可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによる金属膜形成 ・NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi合金薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善
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基本情報
【特長】 ・高純度（2N～4N5対応） ・緻密性（密度が高く、結晶粒が均一） ・ニッケル合金にも対応（NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTiなど） ・優れた加工性能（プレーナー、ロータリ、異型ターゲットなど） 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を支援します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■光学コーティングとディスプレイ業界 ■磁気記憶とセンサー ■太陽電池と太陽光発電産業 ■装飾と工具コーティング ■化学触媒と燃料電池 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。 また、弊社はジルコニウムターゲット（Zr）、ハフニウム（Hf）、タングステン（W）、タンタル（Ta）などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。 お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。 お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。
