SiCパワーデバイス採用や独自のスイッチングシステムによる高速化・高周波化事例！
「低温プラズマ用電源(大気圧プラズマ)」における課題解決事例を ご紹介いたします。 本事例の顧客課題として、効率が悪いため装置のスループットが上がらず コストアップしているということがあげられていました。 そこで、電源の高速化(電圧立ち上がり速度向上)と高周波化による 効率アップをご提案。プラズマ密度向上による高効率化を確認し、 複数ユーザーより高効率化が実証され、本格採用(量産ラインへの導入)に 向けた試験運用を開始しました。 【事例概要】 ■課題：低スループットによるコストアップ ■提案した解決策：電源の高速化と高周波化による効率アップ ■結果：プラズマ密度向上による高効率化を確認 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
ネクスファイ・テクノロジー株式会社は、2021年7月に創業し、 高電圧機器の製造・販売を行っています。 耐電圧1kVクラスのSiCトランジスタを独自技術により直並列接続した 「高電圧スイッチングモジュール」や「高電圧直流電源」などをご用意。 パワーデバイスであるSiCデバイスを活用した独創的・革新的技術により、 未来の豊かな社会づくりに貢献します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。
