ルイス酸耐性で半導体製造の洗浄をサポート
半導体製造業界では、微細な回路の清浄度維持が製品の信頼性に直結します。特に、製造プロセスにおける洗浄工程では、微細な異物や残留物を確実に除去し、かつ基板や部材へのダメージを最小限に抑えることが求められます。不十分な洗浄は、歩留まりの低下や製品不良の原因となり得ます。当社のフッ素高機能性液体・潤滑剤は、ルイス酸耐性を持つように特別に調合されており、半導体製造における精密洗浄のニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける精密洗浄 ・洗浄後の基板や部材の保護 【導入の効果】 ・洗浄工程における異物除去性能の向上 ・部材へのダメージ抑制による歩留まり改善
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基本情報
【特長】 ・ルイス酸耐性を有し、半導体製造プロセスに対応 ・精密な洗浄を可能にする優れた特性 ・先端産業用途で求められる高い信頼性 ・フッ素ケミカルの専門知識に基づいた製品ラインアップ ・金属加工フルード、真空ポンプソリューション、精密洗浄フルードを提供 【当社の強み】 Halocarbonは70年以上にわたり、高品質のフッ素ケミカルを製造する世界有数の企業です。持続的なパートナーシップを構築し、お客様の困難な課題解決のためにフッ素ケミカルに関する専門知識を活用しています。電子材料、フッ素高機能性液体、ライフサイエンスの分野で、お客様と共にイノベーションを創出します。
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Halocarbonは70年以上にわたり、高品質のフッ素ケミカルを製造する 世界有数の企業として活動してきました。 持続的なパートナーシップを構築しながら、困難な課題を解決するために フッ素ケミカルに関する当社の専門知識を活用することに努めています。 これからも電子材料・フッ素高機能性液体・ライフサイエンスの分野で お客様と共にイノベーションを創出します。






