CO₂・H₂を反応条件どおりに供給。研究から実証・生産設備までの流量制御を解説
CCUS・メタネーション・合成燃料の研究開発では、CO₂やH₂などの原料ガスを、設定した反応条件に合わせて安定供給することが重要です。さらに研究から実証・生産設備へ進むにつれて、必要な流量レンジや圧力・温度、流体、設置環境も変化します。 原料ガス供給、混合・希釈、触媒反応、温度・圧力条件試験、パイロット設備、液体原料供給など、各工程における流量制御のポイントを整理。用途・条件に応じたマスフローコントローラ／メータの選定方法と、AMF・SLA5800・SLAMf・QMCの使い分けをご紹介します。研究・評価設備の新規設計や、実証・生産設備へのスケールアップ時の製品選定にぜひご活用ください。 ■ このような課題をお持ちの方へ - CO₂・H₂の混合比率の安定化 - 触媒評価・反応試験の再現性向上 - 複数ガスを使用する評価設備の流量制御 - 高圧・高温など厳しい条件への対応 - 液体原料・反応液の高精度制御 - 研究から実証設備へのスケールアップ
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基本情報
AMFシリーズ 小型・軽量で設置性に優れ、研究・小型OEM装置に適した流量制御。 SLA5800シリーズ 高精度・高安定な流量制御で、幅広い流量レンジに対応。 SLAMfシリーズ 防爆仕様など、厳しい環境・危険場所での使用に対応。 QMC 液体原料の精密制御や微少質量流量測定に対応。
価格帯
納期
用途／実績例
CCUS・メタネーション・合成燃料の代表的な工程 CO₂・H₂など原料ガスの供給・混合における流量制御 触媒反応・評価試験における制御ポイント 研究設備からパイロット設備へのスケールアップ 気体・液体それぞれに適した製品の選び方 用途・条件に応じたAMF／SLA5800／SLAMf／QMCの選定
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企業情報
当社は、重工業、石油・ガス精製、化学や石油化学の研究、薬品薬剤や生物医薬品の生産、また、太陽電池、LED、薄膜、光ファイバー、半導体の製造装置など、さまざまな分野でご利用いただく製品をご提供しております。 プロセスの制御、正確な測定を行える環境設定に貢献することで、お客様側のプロセスの精度が高まり、常にお客様が競争力を発揮できるよう寄り添い切磋琢磨しながら、ビジネスの発展と成長を遂げてまいりました。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。
