超音波洗浄時の微小亀裂の拡大にお困りですか？ファインバブル洗浄に切替で、表面損傷低減と清浄度向上に、更にオゾンを加えて洗浄支援。
超音波洗浄時に表面の微小な亀裂が拡大する不良に対し、超音波を用いないファインバブル洗浄をご提案します。 当社のお客様では、切り替え後に亀裂の拡大が見られず、従来よりきれいな製品に仕上がるようになったとのご報告をいただいています。 オゾンを併用する構成では、微細な気泡で気液接触を促し、オゾンの酸化作用を有機汚れ・レジストの除去に活用します。 表面損傷への配慮と洗浄性能を両立する工程づくりを支援します。 中島物産は、ウエハーの材質・表面膜・既存の微小亀裂に応じ、洗浄条件と装置構成をご提案します。 亀裂の変化と洗浄後の残留汚れを比較し、品質への効果を確認します。
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基本情報
【特長】 ・超音波照射を用いないファインバブル洗浄方式。 ・オゾンの酸化作用で有機汚れ・レジストの除去を支援。 ・基本構成：オゾン発生器＋気泡発生装置＋洗浄槽・循環系。 ・濃度・流量・温度・時間を、材質・膜構成・汚れに応じて設定。 ・純水・超純水の使用を前提に、接液部材の金属溶出・発塵を評価。 【活用シーン】 ・微小亀裂の拡大、不良品発生、洗浄後の残留汚れが課題となる工程。 【導入の効果】 ・お客様事例では、切り替え後に亀裂拡大が見られず、仕上がりが向上。 ・表面損傷の抑制と洗浄品質の向上を目指す工程改善を支援。 【当社の強み】 中島物産は、ファインバブルノズルの開発・販売で培った知見を活かし、現場の用途や設備に合わせた最適なシステムをご提案します。 汎用機器を組み合わせたシンプルで実用的な構成を重視しており、導入費用や維持管理の負担を抑えながら、安定した運用をサポートします。
価格情報
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納期
用途／実績例
【対象分野】 半導体ウエハー製造／シリコン基板の精密洗浄／有機汚れ・レジスト除去／薄物・脆性基板の洗浄検討 【当社お客様の切替事例と公開研究】 ・変更前：超音波の微細振動で、表面の微小亀裂が拡大する不良が発生し不良率が上昇。 ・変更後：ファインバブル洗浄へ切り替え、亀裂拡大が見られず、従来よりきれいな仕上がりに。 ・一般公開研究：オゾンマイクロバブルによる、シリコンウエハー上のレジスト除去効果の向上を報告。 ※変更前後は当社お客様からの聞き取り事例です。公開研究は、別の試験条件におけるオゾン併用の報告の流用です。
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企業情報
当社のファインバブルシステムは、自社製造のファインバブル発生ノズルに、市販のポンプや流量計などを組み合わせた、シンプルで実用的な構成が特長です。 ノズルは詰まりにくいシンプルな構造で、維持管理の負担を抑えられます。 また、汎用機器を活用することで、部品の交換が必要になった場合も調達しやすく、長期にわたる運用を支えます。 当社は、酸素供給に求められる性能と、導入費用・維持管理費用のバランスを重視しています。 設備投資の負担を抑えながら、安定した運用を目指すお客様に、用途に合ったシステムをご提案します。
