高機能薄膜の材料選定に。高純度ハフニウムターゲットで半導体・光学デバイス開発を支援。ハフニウムワイヤーもあり。
ハフニウム（Hf）は耐熱性・耐食性に優れ、半導体材料や高機能薄膜の研究開発に利用されるレアメタルです。 高純度Hfスパッタリングターゲットを取り扱っております。 Hf金属膜や酸化ハフニウム（HfO₂）などの反応性スパッタリングによる機能性薄膜の材料候補としてご検討いただけます。 ・高純度Hf材料 ・半導体・光学薄膜向け ・反応性スパッタリング用途 ・図面・仕様相談 お問い合わせはこちら info@wing-eco.com
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基本情報
材質：Hf 形状：スパッタリングターゲット 純度・寸法・接合：個別確認
価格帯
納期
用途／実績例
・半導体薄膜 ・電子デバイス ・光学薄膜 ・機能性酸化物膜 ・プラズマ切断装置 ・原子力関連設備
ラインアップ（2）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| Hfターゲット | |
| Hfワイヤー |
企業情報
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