レーザーマスク
レ−ザマーキング装置やレーザー加工機に反射膜をパターニングした 基板をセッティングして照射すると、対象物をパターニング加工することができます。 写真印刷技術を駆使していますので、微細なパターニングが可能です。 使用するレーザー波長によって反射膜仕様等は違いますので、 ご要求の仕様に合わせて設計することも可能です。
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基本情報
弊社では、各種レーザー用の反射ミラー・反射板の加工はもちろん、 フォトエッチングの技術を利用しパターニングを付加した製品を扱っています。 特に、半導体パッケージへのYAGレーザマーキング装置用ガラスマスクの供給では 長年の実績があります。そのマスクは誘電体多層膜を直接パターニングする手法で 製造していますので、タイムリーな対応が可能です。 KrFエキシマレーザー加工機用ガラスマスクついても耐久性のよい 誘電体膜仕様で製作可能です。メタル膜仕様の耐久性に問題をお持ちの方は 是非ご相談ください。 その他、全反射ミラー、ハーフミラー、金属マスク、 拡散仕様（サンドブラスト処理、ガラスエッチング処理）マスク等も取り扱っております。 一枚の試作から承ります。
価格情報
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納期
用途／実績例
YAGレーザマーカ用マスク、エキシマレーザ加工機用ガラスマスク、 CO2レーザ用メタルマスク、AL・Cr・Cu・Au等金属薄膜パターニングマスク、 フォトマスク、各種光学ミラー・フィルター他
企業情報
今後は益々、MEMSに代表されます様に、より高精度、より高緻密化が要求されるこの業界に於いて、研究開発部門は必要不可欠になるはずです。 弊社は、長年の培ったノウハウで試作・開発のお手伝いを致します。 電子・光学分野に限らず、あらゆる産業からのお問合せを期待しています。