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各種ガラスのケミカル研磨(ガラスエッチング)加工

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最終更新日:2010年10月01日

株式会社KISO WAVE
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各種ガラスのケミカル研磨(ガラスエッチング)加工

ケミカル研磨技術及びフォトリソ技術により、 各種ガラスの微細加工が可能です。 ■薄板化加工 ■溝加工(薄溝〜深溝) ■穴加工 ■ノングレア膜形成・・・開発中  ■金属薄膜配線パターン付加  詳細は、お問い合わせ下さい。

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ケミカル研磨技術及びフォトリソ技術により、 各種ガラスの微細加工が可能です。 ■薄板化加工 ■溝加工(薄溝〜深溝) ■穴加工 ■ノングレア膜形成・・・開発中  ■金属薄膜配線パターン付加  詳細は、お問い合わせ下さい。

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■□■使用例■□■ ■タッチパネル 抵抗膜方式/静電容量方式 ■表示ディスプレイ LCD/PDP/有機EL/電子ペーパー ■照明・エネルギー LED/有機太陽電池 ■バイオ・光学・MEMS マイクロチップ/回析格子/センサー ■モバイルデコレーション 加飾(ガラス・フイルム・プラスチック) ■基板材料はガラス・フイルム・プラスチックを対応させて頂きます。   またメッキ技術・印刷技術の複合面でもご相談下さい。

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1983年、株式会社ミクロ技術研究所の薄膜金属パターニング工場として設立されLCD基板・PDP基板を中心にフォトリソグラフィーとエッチング技術で先端製品を生み出してまいりました。 2007年、きそミクロ株式会社として分社化する事により、これまで以上に創作的な商品へチャレンジする意思を高め、未来に創造できる会社としてお客様から信頼される企業を目指してまいります。 開発から量産まで当社をお役立て下さい。

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