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最終更新日:2010年10月01日

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アシストナビ社の『パターニング加工』

研究開発・試作・実験・外注量産のパターニング加工サービス専門会社、 アシストナビ社の『パターニング加工』ご案内です。 【特長】 ■Large-wafer Foundry 8,12インチデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ■MEMS-wafer Foundry MEMSデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ■Small-wafer Foundry 6インチ以下デバイス試作ラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。

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シストナビ社 サービス概要 パターニング加工 研究開発・実験・試作・外注量産 

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研究開発・試作・実験・外注量産のパターニング加工サービス専門会社、 アシストナビ社の『パターニング加工』ご案内です。 【特長】 ■Large-wafer Foundry 8,12インチデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ■MEMS-wafer Foundry MEMSデバイスラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ■Small-wafer Foundry 6インチ以下デバイス試作ラインにて各プロセスの加工をアシストします。 <代表的な加工設備> ・スパッタ・CVD ・KrF/ArF露光、イオン注入、CMP等 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。

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用途/実績例

・Large-wafer Foundry 微細TEGパターン (L&S・C&H)、Cuダマシンプロセス パターン等 ・MEMS-wafer Foundry 微細TEGパターン (L&S・C&H)、Cuダマシンプロセス パターン等 ・Small-wafer Foundry 微細TEGパターン (L&S・C&H)、Cuダマシンプロセス パターン等

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