細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
ナノサイズの微細孔に磁性材料等を埋込み、パターンドメディア等を製造する技術です。 【特徴】 ●イオン照射を併用したスパッタリング法によって、細孔の奥まで 効率よく磁性体等を充填することができ、空隙や不純物の極めて 少ない磁性体等の層を形成可能 ●超臨海流体または亜臨海流体を用いためっき法により、低粘性、 高拡散性、表面張力０の性質によって、大面積のディスク全面に 分布する細孔内部に均一に磁性材料等を充填可能 ◇◆詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい◆◇
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基本情報
ナノサイズの微細孔に磁性材料等を埋込み、パターンドメディア等を製造する技術です。 【特徴】 ●イオン照射を併用したスパッタリング法によって、細孔の奥まで 効率よく磁性体等を充填することができ、空隙や不純物の極めて 少ない磁性体等の層を形成可能 ●超臨海流体または亜臨海流体を用いためっき法により、低粘性、 高拡散性、表面張力０の性質によって、大面積のディスク全面に 分布する細孔内部に均一に磁性材料等を充填可能 ◇◆詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい◆◇
価格情報
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納期
用途／実績例
【応用】 ●超高密度磁気記録媒体（パターンド垂直磁気記録メディア） ●各種ナノ構造体の作製
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企業情報
有限会社山口ティー・エル・オーは大学等技術移転促進法に基づき、文部科学省、経済産業省により承認されたTLOで、法人化前の平成11年11月に山口大学の教員50名の出資（資本金400万円）により設立された、リエゾン（人と人との橋渡し）一体型の技術移転組織です。 大学での研究成果を技術移転等の形で社会に還元します。 また、会員企業を募って発明情報などを優先的に開示し、これらを通して地域経済への発展にも貢献すべく活動しています。