R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報
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納期
用途／実績例
電気・電子部品 真空装置部品 航空宇宙関連 機械部品・金型
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企業情報
弊社ではイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる 機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 発足当初より導電性や絶縁性、耐食性など『機能性薄膜』に重点を置き、 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、 試作・開発・研究などの少量から、中小ロットの生産まで、 幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 現在、Φ３００mmサイズの小型機から １０００mm×９００mmの成膜エリアを持つインライン方式の量産機まで 計11台の成膜装置が稼動しております。 なお、お客様からお預かりした基板の開封から成膜品の梱包までの 全工程をクリーンル―ム内で行っております。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ ※HPに展示会出展情報も記載しております。 ぜひご覧ください。
