プロセス制御機器の製品一覧
- 分類：プロセス制御機器
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- オシロスコープ
DN15(1/2”)～最大 DN80 (3”)までの配管内の流量の計測に最適！エアーの使用量管理で省エネへ。
- 流量制御
様々なキャップと容器に対応することが可能！製薬会社や開発向けの研究や小ロット生産に好適
- その他加工機械
- トルク制御
歴代の同シリーズで最小・最軽量の300gとコンパクト！送信機・受信機ともIP65相当、衝撃に強い筐体でスマートに！
- その他プロセス制御
低コストで高度な機能性と信頼性を兼ね備えたマイクロプロセッサ ベースの 1/16 DIN コントローラです。
- コントローラ
- 圧力制御
- その他プロセス制御
TIIS（産業安全技術協会）検定取得 本質安全防爆型放射温度センサー 危険場所（Zone0, 1, & 2）で使用可能
- 放射温度計
- 温湿度制御
- 温湿度関連測定器
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
