半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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アイソレーターをお持ちの方へ。高い薬品耐性と作業性を実現。低価格、短納期も実現可能なグローブボックス・アイソレーター用グローブ

  • TRON 1000.PNG
  • TRON 5000 black n white.JPG
  • TRON 5000.JPG
  • CSM.JPG
  • Butyl Smooth.JPG
  • 作業用手袋

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【2026年5月20日(水)~22日(金)】「インターフェックスWeek東京」出展のご案内

株式会社イトーは、幕張メッセで開催される「インターフェックスWeek東京」に出展致します。 当展示会は、世界25の国と地域から医薬品・化粧品・再生医療の研究・製造に関するあらゆる製品・サービスが出展する展示会として、日本最大の規模で開催。 世界中から医薬品・化粧品メーカー、再生医療企業が来場します。 当社ではTron Power社製「グローブボックス/アイソレーター用グローブ」を出展致します。皆様のご来場をお待ちしております。

洗浄可能な、タッチレス(非接触)構造のバルブフィーダー!異物混入リスクを低減しました

  • フィーダー

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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

  • CVD装置

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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

  • CVD装置

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放射性汚染を最小限に抑制!用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

  • イオン注入装置

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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!

  • その他半導体製造装置

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金属、誘電及び有機膜成膜!熱蒸着装置をご紹介

  • 蒸着装置

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最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

  • CVD装置

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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャンバー

  • アニール炉

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ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター

  • アニール炉

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最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能

  • アニール炉

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アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介

  • アニール炉

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャンバーは3種類から

  • CVD装置

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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現

  • CVD装置

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高選択性エッチング!ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化

  • その他半導体製造装置

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トップクラスのスループット!柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

  • その他半導体製造装置

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量産に必要な多くの安全対策仕様!コンパクトな装置サイズで成膜温度50~285℃

  • その他半導体製造装置

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