半導体製造装置 | イプロスものづくり

【新人設計者必読】電池の仕組みと種類がわかる基礎知識マスター講座

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株式会社NALSEC

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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました

電池・バッテリー
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オイルミストコレクター『ミストール』＜デモ受付中＞

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東洋空気調和株式会社

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静電式により高い捕集率を実現。大型から小型まで豊富なラインアップを展開。水溶性オイルミストにも対応

空調

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CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

株式会社ハイテック・システムズ

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フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

CVD装置

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CVD・MOCVDカスタマイズ装置

株式会社ハイテック・システムズ

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多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

CVD装置

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プラズマイオン注入装置『PUPIONシリーズ』

株式会社ハイテック・システムズ

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放射性汚染を最小限に抑制！用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

イオン注入装置

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加工用エキシマレーザ【G300K】

ギガフォトン株式会社

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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します！

その他半導体製造装置

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熱蒸着装置『EVAD シリーズ』

株式会社ハイテック・システムズ

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金属、誘電及び有機膜成膜！熱蒸着装置をご紹介

蒸着装置

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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

株式会社ハイテック・システムズ

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最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

CVD装置

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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャンバー

アニール炉

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RTP装置『AS-Master 200』

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ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター

アニール炉

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RTP装置『AS-Premium』

株式会社ハイテック・システムズ

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最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能

アニール炉

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RTP装置『AS-One 100/150』

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アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介

アニール炉

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クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャンバーは3種類から

CVD装置

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ICPECVD『SI 500 D』

株式会社ハイテック・システムズ

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ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現

CVD装置

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ICP-RIE『SI 500』

株式会社ハイテック・システムズ

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高選択性エッチング！ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化

その他半導体製造装置

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サーマルALD装置『Firebird』

株式会社ハイテック・システムズ

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トップクラスのスループット！柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

その他半導体製造装置

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サーマルALD装置『Phoenix G2』

株式会社ハイテック・システムズ

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量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～285℃

その他半導体製造装置

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半導体製造装置の製品一覧

【新人設計者必読】電池の仕組みと種類がわかる基礎知識マスター講座

オイルミストコレクター『ミストール』＜デモ受付中＞

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

プラズマイオン注入装置『PUPIONシリーズ』

加工用エキシマレーザ【G300K】

熱蒸着装置『EVAD シリーズ』

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

RTP装置『AS-Master 200』

RTP装置『AS-Premium』

RTP装置『AS-One 100/150』

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

ICPECVD『SI 500 D』

ICP-RIE『SI 500』

サーマルALD装置『Firebird』

サーマルALD装置『Phoenix G2』

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