半導体製造装置の製品一覧
- 分類:半導体製造装置
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- オシロスコープ
H2(水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効果で親水性・濡れ性向上。ドライ・常温処理の新表面洗浄技術
- アッシング装置
- プラズマ表面処理装置
- その他表面処理装置
用例;EVバッテリー開発(発生水素をオンライで計測)水素ジェット・タービン、船舶。FC評価装置、絶縁油、フォークリフト、原子力、
- その他プロセス制御
- 分析機器・装置
- アニール炉