半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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室温から-13°Cの強冷風!ご使用環境によりコンボタイプかセパレートタイプを選択可能!

  • 冷却装置

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2024/4/10(水)~2024/4/12(金)名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内

三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド(名古屋)に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時:2024/4/10~2024/4/12    開場:AM10:00~ 場所:名古屋ポートメッセ(第1展示会場) ※弊社ブース:19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。

プローブピンの全ピン自動挿入。任意の指定ピン交換も可能。

  • テスタ
  • 半導体検査/試験装置

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完全な水切りが可能!スプレー全幅における驚異的な均等性のあるエアーナイフノズル!

  • その他半導体製造装置
  • ノズル

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出力ch数、その他の出力信号もご要望に応じてカスタマイズ可能!

  • 電流計
  • 試験機器・装置
  • 半導体検査/試験装置

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コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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カタログ < SEMICON J ご来場への御礼!>

昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。

工場の設備増設に伴う純水圧不足や、その変動を、純水昇圧ユニットが解決! 安定した供給を実現します。

  • その他半導体製造装置
  • 流量制御

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カタログ < SEMICON J ご来場への御礼!>

昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。

コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ)です。

  • その他半導体製造装置

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Ø2”~6”対応全自動露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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Ø200mm Ø300mm対応露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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精密洗浄に適する高い周波数洗浄機(500kHz、1MHzHz)----<<テスト機レンタル(有償)、お問い合わせください>>

  • その他半導体製造装置

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製品構造確認など幅広いニーズに対応!不良品解析に役立つサービスをご紹介

  • 半導体検査/試験装置
  • 解析サービス
  • LEDモジュール

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使用材料別の放熱特性を比較!過渡熱抵抗測定を行った事例をご紹介

  • 半導体検査/試験装置
  • 基板設計・製造
  • LEDモジュール

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陽極接合装置

  • 油圧機器
  • 造粒装置
  • その他半導体製造装置

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物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能!高選択性のエッチング

  • エッチング装置
  • 超音波洗浄機
  • 乾燥機器

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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

  • CVD装置

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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

  • CVD装置

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放射性汚染を最小限に抑制!用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

  • イオン注入装置

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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!

  • その他半導体製造装置

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金属、誘電及び有機膜成膜!熱蒸着装置をご紹介

  • 蒸着装置

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最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

  • CVD装置

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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャンバー

  • アニール炉

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ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター

  • アニール炉

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最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能

  • アニール炉

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アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介

  • アニール炉

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャンバーは3種類から

  • CVD装置

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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現

  • CVD装置

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高選択性エッチング!ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化

  • その他半導体製造装置

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トップクラスのスループット!柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

  • その他半導体製造装置

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量産に必要な多くの安全対策仕様!コンパクトな装置サイズで成膜温度50~285℃

  • その他半導体製造装置

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500℃ウエハステージ!プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

  • その他半導体製造装置

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研究開発用、小規模バッチ用!簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載

  • その他半導体製造装置

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基板バイアス機構!当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご紹介

  • エッチング装置

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最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載!イオンビームスパッタ装置をご紹介

  • スパッタリング装置

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最大200mm径基板!ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)

  • スパッタリング装置

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メカニカルクランプ又は静電チャック対応!サブナノメーターエッチング機構

  • エッチング装置

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最大150又は200mmウエハ基板対応!エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構

  • エッチング装置

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インターロックカバーもご用意!研磨作業の更なる効率化を実現しました

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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研究開発用の試料作製に好適!振動と騒音を大幅に抑えることに成功しました

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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主軸に高精度アンギュラベアリングを採用!基準テーブル上で±10μm以内の面振れ精度を実現

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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真空チャック式ホルダーや貼付けホルダーなど、豊富なラインアップをご用意!

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械
  • その他機械要素

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高精度・高効率性を追求した研磨技術!精密研磨装置の総合カタログをプレゼント

  • ウエハ加工/研磨装置

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固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介いたします。

  • CMP装置
  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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手動で研磨盤にダイヤモンド液を吹き付けるよりも経済的!自動噴霧装置をご紹介します

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械
  • その他理化学機器

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エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適しています!

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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断面観察用試料が精密かつ容易に作成可能!試料を直接手で触れたり、押さえる必要がありません

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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小さい試料を研磨する際に好適!1つの目的に対して1台を使用できるように設計開発されています

  • ウエハ加工/研磨装置
  • CMP装置
  • その他加工機械

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