加熱装置・炉の製品一覧
- 分類：加熱装置・炉
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
形状に合わせて加熱したい…を解決！製品の小型・軽量化を実現する1枚から製作可能なオリジナル面状ヒーター（面状発熱体）
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
炉内用ヒーターの耐久性・温度ムラにお悩みの方はご相談ください。黒鉛（グラファイト）のような加工性と高い耐熱衝撃性と耐衝撃性を両立
- その他ヒータ
電力の入れ具合で昇温スピードも設計可能！面でしっかりと確実に熱を伝えます！医療機器で活用いただいた際の改善点をご紹介中
- シリコンヒータ
お客様の製品とプロセスに応じて精密に調整可！赤外線技術を用いて解決策をご提案しています
- 加熱装置
- その他ヒータ
自動車製造プロセスにおけるプロセス時間の短縮、コスト削減、省エネルギー等、プロセスの高効率化をもたらします！
- 加熱装置
- 乾燥機器
- その他ヒータ
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
CFRP部材の耐摩耗性向上やSiC部材の酸化・反応防止などに対応。CO2排出量削減、カーボンニュートラルなどの実現を支援
- 加熱装置
- 表面処理受託サービス
- その他搬送機械
