その他加工機械の製品一覧
- 分類：その他加工機械
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中和・エステル化・硫酸化・リン酸化・重縮合反応・粉体混合・乳化分散等製造技術対応いたします※危険物第4類・毒物劇物も取り扱い可能
- 製造受託
各種化学薬品の受託製造のお悩みございませんか？
里田化工株式会社が行う受託製造についてご案内します。 京都を事業拠点とする創業70年の化学メーカー。 創業以来、繊維および製紙工業分野で使われる各種界面活性剤を 開発・製造・販売しています。 これまでに培ってきた技術や開発力をもとに、各種化学品の 受託製造を承りますので、お気軽にお問合せ下さい。 【受託製造実績】 ■建築防水関連薬剤 ■植物成長促進剤 ■建築用防水剤 ■緑化関連薬剤 ■電子産業用薬剤 ■排水処理薬剤 ■工業用防腐剤 ■特殊界面活性剤... 関連製品・関連カタログより詳しくご紹介しております。
【終了しました】 6月3日（金） JIEP最先端実装技術シンポジウム（東京ビッグサイト）にて、ズース・マイクロテック社の3次元積層/TSV形成向けウェーハプロセス技術を紹介。
6月3日（金）東京ビッグサイトにて開催されるJIEP最先端実装技術シンポジウム/セッション3A1『次世代3次元パッケージに対応する新実装技術』（9:30～12:30）において、ズース・マイクロテック社の3次元積層向けウェーハプロセス技術をご紹介いたします。 CMOSイメージセンサーやMEMS等の分野で、TSVを用いた3次元積層デバイスの開発が進められています。3次元積層/複合化において必要となるリソグラフィー、薄ウェーハハンドリング（仮貼り合わせ/剥離）及び、ウェーハ接合技術についてご紹介いたします。 このセミナーでは、この他に3次元実装や次世代パッケージングの最新技術について、各分野の方々がご講演されます。 □詳しくはお問合せください。
【終了しました】 マイクロマシン/MEMS展（7月13日（水）～15日（金），有明・東京ビッグサイト）に出展いたします。
ズース・マイクロテック株式会社は，7月13日（水）～15日（金）の3日間，有明・東京ビッグサイトにて開催される『第22回マイクロマシン/MEMS展』に出展いたします。東2ホール・B-05ブースに是非お立ち寄りください。 MEMS，LED，3Dパッケージング向けウエハプロセス装置として，マスクアライナー，レジスト塗布/現像装置，ウエハ接合装置，仮貼り合わせ/剥離装置をご紹介いたします。薄化ウエハの剥離，高輝度LED向けメタル接合などのサンプル展示を予定しております。また，田中貴金属工業(株)様との共同出展として，サブミクロンAu粒子を用いたウエハ接合技術についても展示いたします。 併設される出展者プレゼンテーションにて，『先端リソグラフィ，ウエハ接合技術 ～先端MEMS，高輝度LED，薄ウエハ搬送～』と題し，主に先端MEMS，高輝度LED向けウエハ接合技術をご紹介いたします。7月14日（木）14:40～15:30，出展者プレゼンテーションルーム（東1ホール側出入口横）に是非お越しください。
【終了しました】SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。
2012年12月4日（火），ハイアット リージェンシー 東京（新宿）にて，SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。本年は，フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』、及び ３Ｄセクション『３Ｄインテグレーション技術の現状と動向』、2つのセミナーを並行して開催いたします。是非ご参加下さいますようお願い申し上げます。 【会期】2012 年 12月 4日（火） 【場所】ハイアットリージェンシー 東京 27F 【一般参加費】￥5,000 【詳細・申込方法】http://www.suss.com/jp.html ■フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』 【開催時間】10:00- 17:10 【定員】100名 ■３Ｄセクション『３Ｄインテグレーション技術の現状と動向』 【開催時間】10:30- 17:10 【定員】100名 ■合同レセプション 17:15-19:00
【終了しました】SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。
2012年12月4日（火），ハイアット リージェンシー 東京（新宿）にて，SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。本年は，フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』、及び ３Ｄセクション『３Ｄインテグレーション技術の現状と動向』、2つのセミナーを並行して開催いたします。是非ご参加下さいますようお願い申し上げます。 【会期】2012 年 12月 4日（火） 【場所】ハイアットリージェンシー 東京 27F 【一般参加費】￥5,000 【詳細・申込方法】http://www.suss.com/jp.html ■フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』 【開催時間】10:00- 17:10 【定員】100名 ■３Ｄセクション『３Ｄインテグレーション技術の現状と動向』 【開催時間】10:30- 17:10 【定員】100名 ■合同レセプション 17:15-19:00
模型製作・ネイルアート・グラスリッツェン・木彫・彫金などの軽作業に最適な、細身で握りやすいペンタイプのグラインダー
- 木材加工機械
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- その他切削工具
発売当初から多くの方に支持されるHP-100Rのデザインが変わり、三爪ドリルチャック対応に。
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高効率！脱泡・脱気、真空包装、真空成形、吸着搬送などに最適なロータリ真空ポンプを新発売
●省エネ対応： モータ定格出力1[W]当たりの排気速度において業界トップレベルの高効率を実現。 ●軽量・小型： 特殊ロータ形状の採用により、省スペース化を実現。 ●長寿命： ・自己潤滑性・耐摩耗性に優れたスーパーエンプラ、及び特殊表面処理の採用により優れた耐久性。 ・マグネットカップリングの採用により摺動シール不要。(シール摩耗によるメンテナンス不要。モータ軸部への負担を極小とすることで、モータの長寿命化をサポート。) ●低発熱： ・強制空冷式を採用し、低発熱を実現。 ・マグネットカップリングの採用により回転軸シール摺動が無く、シールによる発熱無し。 ・高効率モータの使用により、モータ部の発熱を抑制。 ●低運転音・低振動 回転部への徹底したバランス設計により、低運転音・低振動を実現。 ●低発塵 ・低発塵性・低揮発性に非常に優れた真空用クリーングリースを使用し、給油は不要。 ・摺動部極小化により低発塵性を実現。ベーンポンプのような摩耗粉飛散による周囲環境への汚染を抑制。 ●CEマーキング、RoHS指令対応。
