ウエハ加工/研磨装置の製品一覧

  • 分類:ウエハ加工/研磨装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

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様々な素材を高精度に切断できるダイシング!

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銅・鉄(ハイテン)・アルミ銅・マグネシウムなどの金属材料対応OK!凸凹形状をはじめとした様々な形をご要望に合わせてお応えします。

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卓上コンパクト設計を採用!粉塵が飛び散らずクリーンな環境で行えます

  • ウエハ加工/研磨装置

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細かい研磨剤から粗いものまで対応!本体は硬質塩ビ製のため錆びることがありません

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【半導体業界必見】チップ確認をより正確に!高精度の研磨技術で集積回路を傷付けずに検査可能!

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様々な用途にバランスよく対応する不織布ベースの研磨パッド

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  • 手研磨・ヤスリ

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パッド溝加工によるスラリー拡散.JPG

【技術情報】CMP研磨パッドの溝加工 2

前回、研磨パッド表面の溝加工によってスラリーの拡散が変わることをご説明しました。 溝によるスラリーの拡散効果を可視的に検証した事例をご紹介します。 半導体用などでデファクトスタンダートとなっている研磨パッド「IC1000」に異なる溝加工を6種類サンプルとして準備。 ・Circular Groove(同心円溝) ・Perforated Groove(貫通穴溝) ・Radial Groove(放射溝) ・Spiral Groove(螺旋溝) ・XY Groove(XY溝) ・Acr Groove(円弧溝) 青色に着色した液体を同条件下で滴下すると、溝加工によって液体の拡散が異なることがよく分かります。同心円溝や螺旋溝はスラリーの保持性が高く、放射溝や円弧溝はスラリーの排出性が優れることが確認できます。 このように同じ研磨パッドでも溝加工によってスラリーの拡散が異なり、ウェーハなどワークに介入するスラリーの作用に影響しますので、溝加工の選定は大変重要です。 当社ではお客様でのプロセス条件やターゲットを考慮して、溝加工の選定のお手伝いもさせて頂きますので、ぜひご相談下さい。

【削る前が決め手】仕様確認、工法の提案、工程及び治具設計、工具の選定、プログラム作成、加工シュミレーションにも力を入れています

  • ウエハ加工/研磨装置
  • ステッパー
  • 半導体検査/試験装置

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最大φ1000mm、深さ600mmまでの掘り込みが可能です。精度だけでなく美観にもこだわりを持って製品をご提供します

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高い加工品質、非常に短いセットアップ時間、優れた生産性を達成!

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SiC・GaN基板をCARE法で加工します!

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磨き仕上げまでの一貫体制!ゴトウ熔接では、1つからでも試作品の製作を行います

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