その他半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:その他半導体製造装置

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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました

  • 電池・バッテリー
  • 技術書・参考書
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静電式により高い捕集率を実現。大型から小型まで豊富なラインアップを展開。水溶性オイルミストにも対応

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  • 空調

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OSからシステム設計まで30年以上の組込みシステム開発経験のあるNSSがご提案!

  • その他半導体製造装置

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600mm×600mm×900mmサイズの真空チャンバー用のボックスをアルミ鋳物で製造!

  • その他半導体製造装置

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データセンター、半導体等の製造現場、病院、マンションなどで装置内部や配管、水回りの漏水を早期かつ確実に発見し、お知らせします。

  • その他半導体製造装置

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エアー消費を1/2HP以下に抑え、約30%の電力コスト軽減!ATMA社製 片持ち式印刷機

  • その他工作機械
  • その他加工機械
  • その他半導体製造装置

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シルクスクリーン印刷に使われるゴム製スキージの研磨機

  • その他工作機械
  • その他加工機械
  • その他半導体製造装置

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インキ・乳剤等流動体の不純物を除去する機器です。

  • ろ過装置
  • その他半導体製造装置

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ヘール加工による高精度な真空装置の製造

  • その他半導体製造装置

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2024SEMICON Japan

弊社は、ウェーハ搬送に特化した高精度ロボットアームの製造に注力しています。航空機産業で培った先進技術と厳格な品質管理を通じて、精度5μ~10μの高精度な製品をお届けし、外観には傷ひとつない仕上がりを実現。お客様に安心してご使用いただける、信頼の製品を提供しています。 今回の展示会では、ウェーハ搬送アームやフレームのほか、現在開発中の半導体製造用集積化ガス供給システムに関する最新のボディ、そしてシール面加工に不可欠な高精度なヘール加工品もご紹介いたします。技術革新と品質の高さをぜひご覧ください。 次の分野の企業・団体が出展をしています。 ■ 先端半導体および将来アプリケーション AI、機械学習、5G/6G通信技術、量子コンピューティング、自動車(EV、自動運転)、VR/メタバース、宇宙、空モビリティ/ドローン ■ 半導体製造装置 半導体用設計装置、マスク製造用装置、ウェーハ製造用装置、ウェーハプロセス用装置、組立用装置、検査用装置、その他関連装置 ■ 半導体製造用部品・材料 プロセス材料、テスト材料、組み立て材料、基板、パーツ・サブシステム

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ご来場の御礼:IEEE 3DIC@仙台 9/25-9/27

皆さまのおかげをもちまして、本出展を盛況のうちに終えることができました。 心より感謝申し上げますと共に、ご来場いただきました皆さまには心より御礼申し上げます。 今後とも宜しくお願い申し上げます。 ------------------------------------------------- IEEE International 3D Systems Integration Conference (3DIC)にてブース展示させて頂く事となりました。 半導体工程に関する最先端技術発表の場に参加できますことを光栄に思いますと共に、多数のゲストの方々とご交流させて頂けることを願っております。

SiC/GaN高温半導体の熱対策の電子版特許技術動向調査レポート

  • その他半導体製造装置

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信号用ケーブル差し替えで手軽に置き換え!プラズマディスプレイの表示を液晶ディスプレイで表示!

  • その他半導体製造装置

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高品質基板を安価に得られるスピン枚葉装置

  • その他半導体製造装置

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フットプリント・購入コストの大幅低減とスループットUp・基板品質大幅向上

  • その他半導体製造装置

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シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

  • その他半導体製造装置

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量産向け新型【自動スクラブ洗浄装置】と、シリーズ累計200台以上の【フォトマスク洗浄装置】を御紹介します。

  • その他半導体製造装置

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CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター

  • その他半導体製造装置
  • アニール炉
  • CVD装置

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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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