加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
2024/4/10（水）～2024/4/12（金）名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内
三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド（名古屋）に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時：2024/4/10～2024/4/12 開場：AM10:00~ 場所：名古屋ポートメッセ（第１展示会場） ※弊社ブース：19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。
大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で対応が可能！ICNIRP、電波法などの各種規制に対応『S-WAVE301H』
- 加熱装置
【2026年4月8日(水)～10日(金)】『第11回 ものづくりワールド[名古屋]』出展のご案内
アロニクス株式会社は、ポートメッセなごやにて開催される 『第11回 ものづくりワールド[名古屋]』に出展いたします。 当展示会は、IT、DX製品、部品、設備、装置、計測製品など、 開発・製造期間の短縮、DX・IT化の推進、コストダウン、 工場の省エネ・自動化に貢献する先進技術が約630社出展。 当社は、ろう付けや半田付け、焼き嵌め、焼入れなどの加熱工程で お使いいただける誘導加熱(IH)装置を製作、販売しております。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。
2.2kgと軽量、一体型卓上タイプ。ブラシレスモーターにより長時間の連続運転も可能です。
- その他ケーブル関連製品
- ハーネス
- 加熱装置
現場の声から誕生！ 火気作業時の消火器・水バケツ・立ち合い人が不要になり手間もコスト削減。
- 加熱装置
IRシリーズの高温観察炉を利用しデモ≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等
- 試験機器・装置
- その他検査機器・装置
- 加熱装置
《高温依頼測定》最高1700℃～＆雰囲気操作環境下の実験を体験！米倉製作所を代表するIRシリーズのデモ機を利用した高温観察≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫を、ぜひお試しください
～ 金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等 ～ 試験機メーカーの米倉製作所を代表する、集光加熱炉「IRシリーズ」のデモ機を利用した、高温観察を体験できる測定です。 IRシリーズの炉は密閉構造のため、雰囲気操作を行った環境下で*IR-18SPの場合、最高1700℃を出すことができます*。 実際に行った実験の動画や試験プログラムを確認し試験対象の変化をリアルタイムで捉えます。 *使用する装置はデモ機ですので、ご要望によっては対応いたしかねる場合がございますので、詳細はお問い合わせください。 *試験片の熱容量によって変動する可能性があります。 ▼IRシリーズ特徴▼ 急速加熱性能と温度制御の優位性、観察ポートからの情報が加熱実験時間の大幅短縮、最適な加熱条件のスクリーニングなどを容易にし、材料開発業務効率の向上に貢献できます。
パウダー状の乾燥結晶を得る研究用フィルタードライヤーです。加圧濾過器・棚式乾燥機のような製品固化・ロスをなくし工程を減らします。
- その他粉体機器
- 加熱装置
マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介！
- 高周波・マイクロ波部品
- 加熱装置
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [nanoANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
建材、車載、空調機器用に！900℃の電気式空気加熱装置による 『ろう付け工法』！火炎レス装置で脱CO2ろう付けを達成！
- 加熱装置
1日100トンの処理能力を確立！ 90年以上にわたる実績と独自の熱処理技術で、様々なニーズに応じたご提案・ご対応が可能です。
- 加熱装置
加熱工程の導入前に読んでおきたい、導入の流れやポイントを6つのチェックリスト形式で解説した技術資料！
- 加熱装置
- その他ヒータ
- 乾燥機器
湯煎などによる「固形油脂」の溶解に時間が掛かり、お困りではないでしょうか？そんな時間のロスを解決します。
- 加熱装置
- その他 加熱機器
- その他ヒータ
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
高い電力密度、高効率反射鏡により高速加熱が可能な近赤外線ヒーターです。ライン速度アップ、加熱時間短縮といった課題を解決致します。
- その他機械要素
- その他加工機械
- 加熱装置
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
赤外線ヒーター選定に重要な五項目をまとめた小冊子「赤外線ヒーター選定における重要な五項目～五輪書～」を無料進呈中です！
- 加熱装置
- その他機械要素
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