更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
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セルフロック機構により、顕微鏡・光学装置内で停止時の発熱や位置ズレを低減
U-521は超音波ピエゾモータを搭載した、小型リニア動作ステージです（省スペース設計：幅35 mm、高さ15 mm）。 小型ながら、18 mm動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーで、高精度位置計測を実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で機械的に安定した状態で位置を保持します。そのため、消費電力および発熱を大幅に低減できます。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
平坦度5nm・0.3nm分解能で、表面形状解析や半導体位置決めの測定誤差を低減
P-734はパラレルキネマティクス構造によるXY軸ナノポジショニングステージです。 高精度フレクシャーガイドと静電容量式センサにより、0.3 nmシステム分解能と0.03 %リニアリティを実現。 動作量は100 µm×100 µmで、耐荷重は20N。 56 mm×56 mmの大開口により、光学顕微鏡などにも最適。 半導体マスク位置決め、走査型顕微鏡、表面粗さ計測など“平面度×高速”が求められる装置に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
１／１０００℃計測分解能と当社独自の微小電流制御回路により、１／１００℃の高精度温度制御を実現
１．小型・高精度 ①１／１０００℃計測分解能と当社独自の微小電流制御回 路により、１／１００℃の高精度温度制御を実現しまし た。 ②高度なソフトウェア技術によりハードウェアがシンプル で小型です。 ③通常のＰＩＤ制御の他にオーバーシュート抑制制御が追 加され、オーバーシュートを０．１℃に抑えました。 ２．多機能 煩わしいＰＩＤ定数設定を省くためのオートチューニング 機能を標準装備、また異常検出機能も多数装備。 ３．汎用性 ①センサは白金測温抵抗体とサーミスタの両方が使えます ②新駆動回路の採用により、５Ⅴ～２４Ⅴと広範囲なペル チェ電圧に対応することができます。 ③パソコンとのインターフェイスを利用し、種々の温調シ ステムを構築できます。
対物レンズの焦点調整用に専用設計したタイプです。厚みが薄くコンパクトでストロークの種類も豊富な横型です！
超精密位置決めピエゾステージのPF対物レンズフォーカスタイプ横型です。 横型は厚みが薄くコンパクトでストロークの種類も豊富です。ストロークは15nmから400nmまでのラインナップをご用意しております。 PF対物レンズフォーカスタイプは対物レンズの焦点調整用に専用設計したタイプです。 顕微鏡や観察機器、各種の検査・製造装置、レーザー加工機などに組み込みことでレンズの焦点調整の高速化や高精度化が実現します。 各メーカのレボルバおよび対物レンズに対応できるよう、数種類のねじサイズを用意しています。 また、圧電素子の高い応答性と内蔵変位センサによるフィードバック制御で、動きのある対象物にも素早く正確にフォーカスさせることができます。 ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
顕微鏡とステージの自由な組み合わせに対応。一体型によりコンパクト化を実現。
当社では、高い摺動性・耐久性のアリ溝式ステージに、 正立型の顕微鏡を搭載したユニットを提供しています。 一体型でコンパクト化を実現しており、 顕微鏡をUSBカメラに変えた組み合わせも可能。 ニーズに合わせて様々なカスタマイズに対応するほか、 少量生産のご依頼にも対応可能です。 【特長】 ■接眼レンズの倍率と対物レンズの倍率の組み合わせにより 16種類の総合倍率（x10~x200）で使用できる顕微鏡の搭載が可能 ■接眼ミクロメーターの交換で、各種測定・検査・ 芯出し・位置決めなどの用途へ対応可能 ■省スペースへの設置が可能 ※「PDFダウンロード」よりプラスチック成形メーカーの 検査工程での使用事例を紹介した資料をご覧いただけます。
ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは世界中で、各種色々な分野で使用させていますので安心はして使用で来ます。
ナノ分解ピエゾ位置決めステージは、透空孔のある直線圧電プラットフォームであり、搭載物をナノメートル単位の精度で移動させることができます。ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは高い信頼性と高い解像度を持ち、非常に優れた運動直線性と平面性、およびより高い機械的強度を備えています。主に顕微鏡ステッピング移動などで使用され、光学システムの解像度を向上させるための高速なステップおよび安定した運動を実現します。これには、カメライメージングプロセス技術や生物認識技術など、光学系におけるアプリケーションが含まれます。また、特徴的な点として、中央に大きな中空孔があるということが挙げられます。これにより、より良い光学パス条件を光学系に提供することができます。 ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは、透光精密光学デバイスの位置合わせと調整に主に使用され、顕微鏡や分析機器と組み合わせて位置合わせや測定に使用されます。これには、走査プローブ顕微鏡（例：原子間力顕微鏡）、ナノポジショニング、計測、生物学研究、マイクロエレクトロニクス、マイクロ操作、精密制御などの応用があります。
対物レンズの焦点調整用に専用設計したタイプです。縦型はレンズの高速応答性を重視した高剛性仕様です。
超精密位置決めピエゾステージのPF対物レンズフォーカスタイプ縦型です。縦型はレンズの高速応答性を重視した高剛性仕様です。 PF対物レンズフォーカスタイプは対物レンズの焦点調整用に専用設計したタイプです。顕微鏡や観察機器、各種の検査・製造装置、レーザー加工機などに組み込みことでレンズの焦点調整の高速化や高精度化が実現します。 各メーカのレボルバおよび対物レンズに対応できるよう、数種類のねじサイズを用意しています。 また、圧電素子の高い応答性と内蔵変位センサによるフィードバック制御で、動きのある対象物にも素早く正確にフォーカスさせることができます。 ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
光学検査・顕微鏡観察向け。開口構造により透過光学系でも高精度位置決めを実現
PI Magリニアモータ駆動のV-738は、光学式インクリメンタルエンコーダによりシステム分解能1 nm。XY方向それぞれ102 mmのストロークで、最大速度500 mm/s。コアレスのため速度リップルが小さく、低速域でも滑らかな動作を実現しています。 150 mm四方の開口により、レーザ光学ヘッドや検査カメラを内部に配置でき、装置の省スペース化に貢献 非接触式の光学式リニアエンコーダにより、プラットフォーム上で位置を直接かつ高精度に測定します。非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
光学顕微鏡・顕微鏡・レーザー顕微鏡・顕微FTIR・顕微ラマン用冷却加熱ステージ
『Rh10002L 型』は、これまで困難であった試料室の相対湿度を制御し、 サンプルの温度を可変することができるステージです。 温度と湿度を厳密に制御することで、顆粒剤や散剤といった固形製剤の 吸湿性の評価や食品の温度と湿度による結晶変化、フィルムや繊維の 表面形状の変化等の観察を行うことができます。 顕微鏡はもちろん、移動が容易にできる装置ですのでレーザー顕微鏡や 顕微FT-IR、顕微ラマン、シンクロトロン施設等にセットして観察することができ、 ナノからミクロまでの観察・測定・計測装置に応用することも可能です。 【特長】 ■湿度コントロールする為のドライガス等が不要 ■純水を装置内のボトルに入れるのみで、すぐ使用可能 ■湿度の設定は試料室内の湿度を設定するのみで簡単 ■流量や配管の温度の設定等はシステム側でコントロール ■移動が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社は特注位置決め装置を打ち合わせ設計、製作、組立調整、検査を吟味して最適な特注位置決め装置を製作プロデュースさせて頂いてます
位置決め装置を総合的にプロデュースする当社では、 数多くの「特注システム位置決め装置」を手掛けて来ました。 また、小型・軽量・幅広い角度を実現したゴニオステージやφ160mmの貫通穴、厚さ44mm の回転ステージ、剛性が強く低価格な小型ステンレス自動ステージ「YBSシリーズ」など 多彩な製品をラインアップ。 必要に応じてステージ自体の面の大きさ、移動量、精度に合わせて、特注品などの対応もさせて頂いておりますので、別途お問い合わせ下さい。 高精度な防振台、定盤なども販売させて頂いており、特注の寸法などにも対応可能です。 また、他社の製品も低価格にて販売させて頂いております。 【今まで手掛けて来たシステム位置決め装置】 ■ナノメータ画像位置決め装置 ■リニアスケール付顕微鏡装置 ■分光光学システム装置 ■輝度測定装置 ■フイルム基板張り合わせ装置 ■微細部品組立装置 ■CARS顕微鏡システム ■分光器用ファイバー集光システム ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
最高1nmの分解能を備えたステージや、±20nmの繰り返し再現性を実現したステージを提供。1台からカスタムにも対応可能
製品の微細化が進む半導体分野やシリコンフォトニクス等の光学分野において 位置決め精度への要求はますます高まっていますが、ナノメートルオーダーの 超精密位置決めの実現には、機構と制御のマッチが不可欠です。 当社は、超精密位置決めに適した製品『ピエゾステージ』の専門メーカーとして 20年以上の実績があり、カタログ規格品を豊富にラインアップしています。 さらに、カスタム設計にも積極的に対応しており、 規格品からでは選定が難しい場合にも用途に合った製品を提供可能です。 【ラインアップ】 ＜超精密ピエゾステージ＞ ■800μm以下の微小な領域において最高1nmの分解能と高速応答の超精密位置制御が可能 ■ミラー用チルトや対物フォーカス用など種類が豊富 ＜精密ピエゾモータステージ＞ ■25mmまでの移動量において±20nmの繰り返し再現性で信頼性の高い位置制御を実現 ■電源オフの状態でもセルフロッキングにより位置を保持 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上
0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現
計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s（4 m/s）により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応
高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適
精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
実験の精度と効率を高める、HIWIN 単軸リニアモーターステージ
計量・計測・品質管理工程では、測定結果の正確性と再現性が、製品品質の信頼性を大きく左右します。特に、センサや測定ユニットを用いた計量・検査工程では、位置決めのズレや動作時の揺れが測定誤差を引き起こし、品質判定のばらつきや誤判定につながる可能性があります。その結果、再検査の増加や検査工程全体の効率低下を招く要因となります。このような工程では、高精度かつ安定した繰返し動作を実現する直線駆動機構が不可欠です。 HIWIN 単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決め性能と安定した直線動作により、計量・計測・品質管理工程における測定精度と検査の信頼性向上に貢献します。重量測定、寸法検査、品質判定など、精度が求められる各種工程において、安定した計測環境を実現します。 【活用シーン】 ・寸法・形状・位置精度を測定する検査装置 ・重量・ばらつきを確認する自動計量システム ・生産ライン内インライン計測・品質確認工程 【導入の効果】 ・計測結果のばらつきを抑え、測定精度を安定化 ・検査工程の自動化により、検査時間を短縮 ・人による測定差を低減し、品質判断の属人化を解消
止めた位置から微動しない！ロングストロークで高精度測定を実現
高精度測定に欠かせないアリ溝式ステージに、ロングストロークでストッパー不要の『セルフロックステージ SLXシリーズ』が新登場。特許取得のセルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぎ、安定した測定環境を実現します。 【活用シーン】 - 高精度な測定や検査が必要な場面 - 長時間安定した位置決めが必要な場面 - 微動や位置ずれが許されない場面 - 限られたスペースでの作業 - 複雑な形状の測定 【導入の効果】 セルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぐことで、測定精度を向上させます。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業効率が向上します。さらに、スリムな形状で設置場所を選ばないため、限られたスペースでも使用できます。
高精度な計測を、短納期・低コストで実現する2軸リニアモーターステージ
精密測定業界では、高精度な計測が求められます。特に、微細な位置決めや正確な移動が不可欠であり、測定結果の信頼性を左右します。従来のステージでは、精度や速度、コストのバランスが課題となることがありました。SSA XYシリーズ リニアモーターステージは、これらの課題を解決し、高精度な計測を可能にします。 【活用シーン】 ・精密部品の検査 ・半導体製造装置 ・研究開発における実験 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・短納期での導入によるコスト削減 ・優れたコストパフォーマンス
摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献
計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減
高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化
研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ
高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上
顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
研究開発分野の実験では、ナノ～ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化
0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上
ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z～P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
最大35 µmストローク×0.1 nm分解能の高精度ナノポジショニング
計測・評価分野における校正および微小位置決めでは、ナノメートルレベルの分解能と高い位置再現性が求められます。 P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。 これにより、精密測定機器の校正や評価工程において、安定した微小位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正・性能評価 ・光学系のアライメントおよび位置補正 ・センサー評価・材料試験における微小変位制御 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・安定した微小変位制御による測定精度の安定化
光学系の精密調整に。高精度な位置決めを実現するエアベアリングステージ
光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上
光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善
ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート
光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献
