更新日： 集計期間:2026年03月25日～2026年04月21日
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44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上
0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現
計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s（4 m/s）により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応
高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適
精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
実験の精度と効率を高める、HIWIN 単軸リニアモーターステージ
計量・計測・品質管理工程では、測定結果の正確性と再現性が、製品品質の信頼性を大きく左右します。特に、センサや測定ユニットを用いた計量・検査工程では、位置決めのズレや動作時の揺れが測定誤差を引き起こし、品質判定のばらつきや誤判定につながる可能性があります。その結果、再検査の増加や検査工程全体の効率低下を招く要因となります。このような工程では、高精度かつ安定した繰返し動作を実現する直線駆動機構が不可欠です。 HIWIN 単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決め性能と安定した直線動作により、計量・計測・品質管理工程における測定精度と検査の信頼性向上に貢献します。重量測定、寸法検査、品質判定など、精度が求められる各種工程において、安定した計測環境を実現します。 【活用シーン】 ・寸法・形状・位置精度を測定する検査装置 ・重量・ばらつきを確認する自動計量システム ・生産ライン内インライン計測・品質確認工程 【導入の効果】 ・計測結果のばらつきを抑え、測定精度を安定化 ・検査工程の自動化により、検査時間を短縮 ・人による測定差を低減し、品質判断の属人化を解消
止めた位置から微動しない！ロングストロークで高精度測定を実現
高精度測定に欠かせないアリ溝式ステージに、ロングストロークでストッパー不要の『セルフロックステージ SLXシリーズ』が新登場。特許取得のセルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぎ、安定した測定環境を実現します。 【活用シーン】 - 高精度な測定や検査が必要な場面 - 長時間安定した位置決めが必要な場面 - 微動や位置ずれが許されない場面 - 限られたスペースでの作業 - 複雑な形状の測定 【導入の効果】 セルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぐことで、測定精度を向上させます。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業効率が向上します。さらに、スリムな形状で設置場所を選ばないため、限られたスペースでも使用できます。
高精度な計測を、短納期・低コストで実現する2軸リニアモーターステージ
精密測定業界では、高精度な計測が求められます。特に、微細な位置決めや正確な移動が不可欠であり、測定結果の信頼性を左右します。従来のステージでは、精度や速度、コストのバランスが課題となることがありました。SSA XYシリーズ リニアモーターステージは、これらの課題を解決し、高精度な計測を可能にします。 【活用シーン】 ・精密部品の検査 ・半導体製造装置 ・研究開発における実験 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・短納期での導入によるコスト削減 ・優れたコストパフォーマンス
摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献
計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減
高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化
研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ
高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上
顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
研究開発分野の実験では、ナノ～ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化
0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上
ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z～P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
最大35 µmストローク×0.1 nm分解能の高精度ナノポジショニング
計測・評価分野における校正および微小位置決めでは、ナノメートルレベルの分解能と高い位置再現性が求められます。 P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。 これにより、精密測定機器の校正や評価工程において、安定した微小位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正・性能評価 ・光学系のアライメントおよび位置補正 ・センサー評価・材料試験における微小変位制御 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・安定した微小変位制御による測定精度の安定化
光学系の精密調整に。高精度な位置決めを実現するエアベアリングステージ
光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上
光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善
ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート
光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ
高速・高精度なZ軸制御で、半導体検査の品質と効率を向上
半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上
リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答
光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制
ミクロン単位の位置精度で、検査・計測を確実に。
計測・検査・センシング分野では、測定精度と検査の再現性が品質の信頼性を左右します。特に、検査ヘッドやセンサを正確に位置決めする動作が必要な工程では、位置ズレや揺れが誤差を生み、検査結果のばらつきや誤判定につながる可能性があります。高い精度と安定した繰返し動作が求められる環境では、安定した直線駆動が装置性能の鍵となります。 HIWIN 単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決め性能と滑らかな直線動作を実現し、検査・計測装置の信頼性と効率を向上させます。半導体製造や電子部品の検査など、厳しい精度要求の現場に対応し、安定した測定環境を提供します。 【活用シーン】 ・微小部品・半導体ウェーハ検査装置の位置決め ・自動寸法計測ステージの駆動部 ・センサ移動・追従ステージ ・画像・光学計測機構への組込み ・表面形状評価・幾何公差検査装置 【導入の効果】 ・ミクロン単位で安定した位置制御が可能 ・繰返し誤差を抑制し、検査ばらつきを低減 ・高速動作による測定サイクルの短縮 ・装置停止・再調整を減らし稼働率を最大化
位置ずれを防ぐ、高精度セルフロックステージ
電子部品製造においては、精密な位置決めが求められます。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 精密部品の検査・測定 - 自動化ラインにおける位置決め - 高精度な加工工程 - 長時間固定が必要な用途 【導入の効果】 - 位置ずれによる製品不良の防止 - 作業効率の向上 - 精密な位置決めによる加工精度の向上 - 検査・測定の精度向上
精密測定での位置ズレも回避可能。スリム形状で狭小スペースでも使いやすい！
バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 ストッパー類を排した構造によりスリムな形状を実現し、 省スペース設計の治具や装置にも適しています。 精密測定での位置ズレも回避でき、半導体や電子部品の 生産設備メーカーにも導入実績がある製品です。 【特長】 ■ステージの移動はお手持ちの六角レンチまたは六角ドライバーを使用 ■±15mmの広い移動量で柔軟な位置調整が可能 ■水平方向以外の設置も可能 ■1軸と2軸タイプをラインアップ ■高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍 ★現在、セルフロックステージの特長をわかりやすく紹介した動画を公開中です。 ※製品の詳細は資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
自動車部品の検査工程を加速する、高精度2軸リニアモーターステージ
自動車業界の検査工程では、製品の品質と安全性を確保するために、高精度な位置決めと迅速な検査が求められます。特に、部品の寸法測定や外観検査においては、正確な位置決めが不可欠です。位置決めの精度が低いと、検査結果の信頼性が損なわれ、不良品の発見が遅れる可能性があります。当社のリニアモーターステージは、高精度な位置決めと高速移動を実現し、検査工程の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・自動車部品の寸法測定 ・外観検査などの検査工程 ・組み立て工程における位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・不良品の早期発見 ・コスト削減
校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ
計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化
顕微鏡試料のナノ精度走査に。0.1nm分解能と高リニアリティで安定した位置決めを実現
顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。
半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減
