更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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在庫販売で短納期！全品1個から販売
エドモンド・オプティクスは、チタンサファイア、エルビウムドープ ファイバー、ツリウム(Tm)、ホルミウム(Ho)など、フェムト秒レーザー光源に 使用できるチャープミラーや高分散ミラーのラインアップを拡充しています。 このミラーは、超短パルス圧縮用の低入射角を持つものか、ビーム伝播中の 超短パルス圧縮の45°など、より大きな入射角のものをラインアップします。 特注仕様のチャープミラーや高分散ミラーが必要なアプリケーションの場合は、 当社にご連絡ください。 ■詳細は下記リンクよりエドモンド・オプティクスの公式サイトにて ご確認下さい。
SA(サチュラブルアブソーバ)は、半絶縁性のGaAsウエハ上に過飽和吸収層を形成したもの
■SAの両面には、レーザの波長に合わせて反射防止(AR)コーティングが施されている ■SAは非線形吸収体であり、透過率はパルスエネルギーの増加とともに増加 ■SAの典型的な飽和フルエンスは、SAMのそれよりも高くなる ■緩和時間が100ps以下になると、SAは基底状態に戻る
反射性能とコストを兼ね備えたミラーをご提供します。 誘電体多層膜を差異表層に成膜することにより、優れた耐久性を実現。
こんなことにお困りではありませんか？ ■通常のアルミミラーより反射率が高いミラーがほしい。 ■耐久性に優れたミラーが欲しいけど、誘電体で設計可能ですか？ ■入射角の幅があるので、考慮できますか？ ■形状が特殊だけど、部品として出荷可能でしょうか？ 安達新産業株式会社製アルミ増反射ミラーは、誘電体を積層し制御する事で、反射する際の光量の損失が少なく、環境耐久性に優れた性能を実現できます。 特定の光学設計に合わせてカスタマイズが可能で、特定の波長範囲やアプリケーションに適した反射特性を持つことを目的としたミラーです。
高度な薄膜理論や光学素材の知識に精通した技術者による緻密な設計を実施！
当製品は、基板の研磨状態や、成膜材料、成膜条件などを検討し、 高出力レーザ光学系への使用も可能な高いレーザ耐性を持った ミラー、ARコーティングです。 高耐久性を必要とするレーザ光学系やレーザ加工機などの用途で使用。 ミラーの膜設計においては、多層膜内に形成される定在波電界強度を考慮し、 レーザに対する耐性を高めています。 【特長】 ■高度な薄膜理論や光学素材の知識に精通した技術者による緻密な設計を実施 ■高性能光学コーティング製品をご希望の波長に応じてご提案 ■消耗品などのレーザ保護ガラスについても希望される波長、基板寸法で製作 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
GDD～oのブロードバンドが利用可能！典型的な半径範囲は10～10000mm
当社で取り扱う、Layertec製の「フェムト秒レーザー用銀ミラー」について ご紹介いたします。 VISおよびIRでの高い反射率。追加の誘電体コーティングを使用すると さらに向上します。 標準サイズはφ＝12.7mm/25mm/50mm、典型的な半径範囲は10～10000mmで、 平面、平凹、または平凸です。 【特長】 ■VISおよびIRでの高い反射率 ■GDD～oのブロードバンドが利用可能 ■非常に低い散乱(～30ppm) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
PCミラーはポリカーボネート樹脂にアルミを蒸着したミラー板です。
【製品の特長】 軽くて割れにくい事に加え、切断、打ち抜き加工、強制曲げといった加工が容易というポリカーボネートの特徴をそのまま持っています。 【ラインナップ】 ・PCミラー ・PCミラーPCMR (表面硬化タイプ) ・PCミラーPH (アルミをハーフ蒸着し、透明なバックコートを施したマジックミラータイプ) ・PCミラーPHMR (表面硬化板にアルミをハーフ蒸着した表面硬化マジックミラータイプ)
多層膜構造の層の厚さと材料の種類を制御！特定の波長の範囲のみを反射可能
「ダイクロイックミラー」は、特定の波長範囲に対する反射率を 制御することができるミラーです。 一般的に薄膜の多層構造を持ち、その多層膜構造の層の厚さと 材料の種類を制御することで、特定の波長の範囲のみを反射することが可能。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■特定の波長範囲に対する反射率を制御することができる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
回転体の内面にX線が照射され、1回もしくは2回の反射を経て1点に集光！
回転体X線ミラーは、1点に集光する特性を持つ関数の軸を中心に、 その関数を1回転して得られる立体形状を持ちます。 主に楕円関数や、楕円関数と双曲関数を組み合わせた関数を基に、 必要とされる光学性能に合わせて回転体が設計。 回転体の内面にX線が照射され、1回もしくは2回の反射を経て1点に集光。 集光点に分析試料などを設置し、材料分析や観察などを行います。 【特長】 ■1点に集光する特性を持つ関数の軸を中心に、その関数を1回転して 得られる立体形状を持つ ■必要とされる光学性能に合わせて回転体が設計される ■集光点に分析試料などを設置し、材料分析や観察などを行う ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられます！
EUVは、極端紫外光のことで、Extreme Ultravioletの略称です。 主に半導体リソグラフィ用途に13.5nmのEUV光源が用いられ、 従来のArFエキシマレーザー(193nm)に比べより微細なパターンが 描写可能です。 EUVは物質への吸収率が極めて高く透過型の光学系(レンズ)を 使用できないため、反射光学系(ミラー)を用いる必要があります。 【特長】 ■物質への吸収率が極めて高い ■透過型の光学系(レンズ)を使用できないため、反射光学系(ミラー)を 用いる必要がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
OA機器や通信機器に！絶縁部材や工程材用途として多くの出荷実績有！
『東レルミラーS10#188』は、フィルムのプレス抜き加工品です。 絶縁部材や工程材用途として、多くの出荷実績があります。 いろんな形状で抜く事も可能で、精度についても型式を変える事により ご要望に応じた精度で抜く事ができます。 厚みが増すとカールが発生する頻度が多くなりますが、アニール処理を 行う事で、材料をフラットに保つ事が出来ます。当社で材料を調達する 事もでき、小ロットでも対応できます。 【プレス加工の特長】 ■トムソン型、ピナクル型、金型等を使い分けます ■小さいモノから大きなモノまで、薄いモノから厚いモノまで対応 ・対応イズ：max 700mm×1200mm 厚み 0.025mm～ 1.5mm ■色んな材料をプレス加工します ・粘着テープ、PETフィルム、PP、PE、ポリカ、ポリイミド、塩ビなど ■内製による装置設計 ・社内で設計製作し、コストやスピードに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
IBSコーティング・ブロードバンドで>99.9%の超高反射ミラーです。低GDDが特徴です。
メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 50.8 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 9.52 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >80% Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA Parallelism: <10 arcmin Protective chamfer: 0.2-0.5 mm x 45° Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs >99.9 % @ 700 – 900 nm, AOI=45° (|GDDrs| < 20 fss) S2: SCC
IBSコーティング・ハイパワーハンドリング>0.3J/cm2の1030nmウルトラファーストミラーです。低GDDが特徴です。
メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Dimensions: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface flatness, S1: <λ/4 @ 633 nm per CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRa>99.8% @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45° |GDD R| <20 fs^2 @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45° S2: Uncoated LIDT: >0.3 J/cm2, 1030 nm, 100 fs, 100 kHz. >0.7 J/cm2, 1030 nm, 800 fs, 100 kHz
IBSコーティング・短波長206nm向け高反射ミラーです。
メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (C7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >85% Surface quality, S2: polished Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per CA Surface flatness, S2: NA Parallelism: <10 arcsec Protective chamfer: 0.2-0.4 x 45° Chips: <0.2 mm stoned Coatings (IBS): S1: HRp>93%@ 206 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated
IBSコーティング・波長1030nmで>99.9%の超高反射ミラーです。超低GDD~ 0 fssが特徴です。
メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Coated CA: >80% Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA Parallelism: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Chips: <0.2 mm Coatings (IBS): S1: HRs > 99.9% , HRp > 99.9% @ 1030 nm, |GDDr ~ 0 fss| AOI 45 deg S2: uncoated
IBSコーティング・ブロードバンド980-1100nmで>99.9%の高反射ウルトラファーストミラーです。低GDDが特徴です。
メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Ultrafast Broadband Mirror Material: UVFS Dimensions: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >80% Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Surface flatness, S1/S2: <λ/6@633 nm Coatings (IBS): S1: HRs>99.95% & HRp>99.9%@ 980 - 1080 nm, AOI=45 deg |GDD Rs|<30 fs^2@960-1100 nm, |GDD Rp|<30 fs^2@ 990-1070 nm S2: SCC
