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剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
