レジスト剥離液（アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系）
アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、 有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・低温から高温での処理が可能です。 ・いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。 キーワード：レジスト、非水系
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
剥離液 - メーカー・企業8社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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剥離液のメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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- 関東化学株式会社 電子材料事業本部 東京都/化学
- 林純薬工業株式会社 電子材料部 大阪府/化学
- 大和化成株式会社 兵庫県/その他製造
- 4 三和油化工業株式会社 愛知県/化学
- 5 日進化成株式会社 東京都/製造・加工受託
剥離液の製品ランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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- NMP代替レジスト剥離液 『JELK-404』 関東化学株式会社 電子材料事業本部
- ノンシアン系の剥離液「ダインストリップ」シリーズ 大和化成株式会社
- レジスト剥離液（水系）「PureClean MCseries」 林純薬工業株式会社 電子材料部
- 4 AlCrN系コーティングの剥離液『サンリムーバー TC-12』 三和油化工業株式会社
- 5 レジスト剥離液（アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系） 林純薬工業株式会社 電子材料部
剥離液の製品一覧
1～28 件を表示 ／ 全 28 件
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レジスト剥離液（水系）「PureClean MCseries」
レジストを良好に剥離します。含水系剥離液は消防法の危険物に該当しません。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ NMPを使用していません。 キーワード：レジスト、非危険物
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
カラーフィルターリワーク剥離液、ポリイミド剥離液
BM、RGB、OC、PS形成後のリワーク剥離、またはポリイミド剥離に最適な化学薬品です。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 中間リンスが不要です。 ・ 低泡性で、スプレー処理やブラシ洗浄の併用が可能です。 ・ 引火点がなく、消防法非該当品です。 ・ カラーフィルターリワーク時のITO膜のエッチング液としてClean Etch ITO seriesの使用を推奨します。 キーワード：リワーク、カラーフィルター、カラーレジスト、ポリイミド
- 企業：林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格：応相談
レジスト剥離液
炭酸エチレンベースのレジスト剥離液
炭酸エチレンベースの『レジスト剥離液』は、二酸化炭素を原料としており、 製造時の二酸化炭素の発生がほとんどありません。 炭酸エチレンと比較して、常温で個体の物質を19℃に改良を行いました。 クリーンルーム内では液体として使用可能です。 主な用途は、ポリカーボネート原料、リチウムイオン電池用電解液などです。 【特長】 ■蒸気圧が低く、ニオイもほとんどない ■引火点が高く、火災の危険性が低くなる ■原料製造時のCO2の発生はほとんどない 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 価格：応相談
AlCrN系コーティングの剥離液『サンリムーバー TC-12』
緩やかに反応しながらコーティングの内側まで浸透！コーティングを浮き上らせる様にして剥離します
当カタログは、AlCrN系コーティングの剥離液『サンリムーバーTC-12』 の取扱説明書です。 「特長」をはじめ、「適用」「性状」「使用方法」「性能」などを掲載。 「サンリムーバーTC-12」は、AlCrＮ系コーティングの剥離液です。 緩やかに反応しながらコーティングの内側まで浸透し、コーティングを 浮き上らせる様にして剥離します。 【掲載内容】 ■特長 ■適用 ■性状 ■使用方法 ■性能 ■注意事項 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：三和油化工業株式会社
- 価格：応相談
パラジウム合金めっき剥離液シリーズ
短時間で処理が可能な製品と、素材再利用が容易な製品についてご紹介いたします
日進化成株式会社の取り扱う『パラジウム合金めっき剥離液シリーズ』 についてご紹介します。 短時間での処理が可能で、液安定性が良好な「パラジウムストリッパー2」を はじめ、素材や下地を侵しにくい「パラジウムストリッパー3000」を 各種ラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ＜パラジウムストリッパー2＞ ■1分間に1～2μmの剥離が可能 ■短時間での処理が可能 ■液安定性良好 ■剥離後の再めっきで密着性良好 ■純パラジウムの他、パラジウム合金も剥離可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：日進化成株式会社
- 価格：応相談
レジスト剥離液『PURMS＋Y』
ゼロエミッション対応の剥離剤（中性タイプ）！
『PURMS＋Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社山縣機械 ＦＴＰ事業部
- 価格：応相談
NMP代替レジスト剥離液 『JELK-404』
NMP、アミン不含有でAlやCu配線との高選択性を持つレジスト剥離液
NMPは生殖毒性が懸念され、作業者へ健康被害や環境への悪影響を考慮し、REACH規制では制限対象物質への指定や、TSCAではリスク管理規則案が公表され使用に関する規制が強くなっています。これら規制へ対応し、NMP代替として使用可能な超音波プロセス対応のレジスト剥離液をご用意しております。 【特徴】 ■被膜形成型の防食剤を含まず、配線材料であるCu、Alの防食性を有する。 ■NMPおよびアミン不含有 ■超音波プロセスに対応 ※詳細は弊社HP又は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
- 企業：関東化学株式会社 電子材料事業本部
- 価格：応相談
半導体用テープ接着剤剥離液『EZ(S)-シリーズ』
テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた剥離性・溶解性を持つ剥離液！NMP、DMSO、TMAHフリーの環境配慮製品です。
『EZ(S)-Series』は、テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた 剥離性・溶解性を示す、半導体用テープ接着剤剥離液です。 接液材料(Cu、SiO2等)のダメージを与えず高選択性。NMP、DMSO、 TMAHフリーで、作業者の健康被害や環境への悪影響を考慮しました。 ダイシングテープやバックグラインドテープ剥離後の接着剤残渣の剥離と 溶解に適しています。 【特長】 ■テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた剥離性・溶解性を示す ■接液材料(Cu、SiO2等)のダメージを与えず高選択性 ■NMP、DMSO、TMAHフリー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：関東化学株式会社 電子材料事業本部
- 価格：応相談
ノンシアン系の剥離液「ダインストリップ」シリーズ
シアン化合物を含有しない金、銀、スズの剥離液「ダインストリップ」
ノンシアン化のパイオニアである大和化成は、金、銀、スズの剥離液のノンシアンを実現しています。 浸漬タイプ、電解タイプのラインナップがあり、ご要望の仕様に対応できます。 ◆金剥離液（ダインゴールドストリップ） ・ニッケル、SUS素地をほとんど浸食することなく剥離可能 ・毒劇物非該当 ◆銀剥離液（ダインシルバーストリップ） ・ニッケル、SUS素地をほとんど浸食することなく剥離が可能 ・毒劇物非該当 ◆スズ剥離液（ソルダーリップ） ・スズ、スズ合金めっき皮膜の剥離に最適 ・金属間化合物も剥離可能 ・短時間で剥離可能なため、同基板の損傷はほぼ無し ・フッ化物、過酸化物非該当
- 企業：大和化成株式会社
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト RMO-C』
苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適！
『アンラスト RMO-C』は、高温使用が可能の為、剥離性に優れている 塗装剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに3～7％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト CA』
鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適！液性が中性の為、素材を選びません
『アンラスト CA』は、各種被膜を剥離する中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト M11』
鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適！有機アルカリタイプ
『アンラスト M11』は、アルミ等にも対応可能な塗装剥離液です。 有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶／200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M10』
浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を防止！
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』
浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』
鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです
『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易 ■鉄系基材に対し、防・除錆効果がある ■生分解性がよく、環境負荷が少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト CB』
アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能！液疲労が小さく非常に経済的
『アンラスト CB』は、鉄鋼、非鉄金属製の治具等に適した 塗装剥離液です。 アルカリタイプですが、アルミ及びアルミ合金材に対する 腐食性が無く対応可能。 また、剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく 非常に経済的です。 【特長】 ■各種被膜を剥離するアルカリタイプ ■アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能 ■剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない ■液疲労が小さく非常に経済的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト RMO-K』
溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適！高温使用が可能の為、剥離性に優れています
『アンラスト RMO-K』は、苛性カリベースの電着塗装剥離剤です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト MP』
溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れています
『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』
ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！
『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
塗装剥離液『アンラスト EW-R』
エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有していません
『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』
キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液のご紹介
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M6』
ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト R510』
剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト M71-2』
浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
レジスト剥離液『アンラスト No.2C』
水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三若純薬研究所
- 価格：応相談
