レジスト剥離液(アミン/溶剤系・溶剤系・有機アルカリ系)
アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、 有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・低温から高温での処理が可能です。 ・いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。 キーワード:レジスト、非水系
- 企業:林純薬工業株式会社 電子材料部
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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アミンと溶剤を混合した系統の剥離液、および溶剤系統の剥離液、 有機アルカリ系統の剥離液を取り揃えています。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・低温から高温での処理が可能です。 ・いずれのレジスト剥離液もNMP非含有です。 キーワード:レジスト、非水系
レジストを良好に剥離します。含水系剥離液は消防法の危険物に該当しません。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 金属膜や絶縁膜を腐食することなく、レジストを良好に剥離します。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ NMPを使用していません。 キーワード:レジスト、非危険物
BM、RGB、OC、PS形成後のリワーク剥離、またはポリイミド剥離に最適な化学薬品です。
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 中間リンスが不要です。 ・ 低泡性で、スプレー処理やブラシ洗浄の併用が可能です。 ・ 引火点がなく、消防法非該当品です。 ・ カラーフィルターリワーク時のITO膜のエッチング液としてClean Etch ITO seriesの使用を推奨します。 キーワード:リワーク、カラーフィルター、カラーレジスト、ポリイミド
炭酸エチレンベースのレジスト剥離液
炭酸エチレンベースの『レジスト剥離液』は、二酸化炭素を原料としており、 製造時の二酸化炭素の発生がほとんどありません。 炭酸エチレンと比較して、常温で個体の物質を19℃に改良を行いました。 クリーンルーム内では液体として使用可能です。 主な用途は、ポリカーボネート原料、リチウムイオン電池用電解液などです。 【特長】 ■蒸気圧が低く、ニオイもほとんどない ■引火点が高く、火災の危険性が低くなる ■原料製造時のCO2の発生はほとんどない 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
緩やかに反応しながらコーティングの内側まで浸透!コーティングを浮き上らせる様にして剥離します
当カタログは、AlCrN系コーティングの剥離液『サンリムーバーTC-12』 の取扱説明書です。 「特長」をはじめ、「適用」「性状」「使用方法」「性能」などを掲載。 「サンリムーバーTC-12」は、AlCrN系コーティングの剥離液です。 緩やかに反応しながらコーティングの内側まで浸透し、コーティングを 浮き上らせる様にして剥離します。 【掲載内容】 ■特長 ■適用 ■性状 ■使用方法 ■性能 ■注意事項 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
短時間で処理が可能な製品と、素材再利用が容易な製品についてご紹介いたします
日進化成株式会社の取り扱う『パラジウム合金めっき剥離液シリーズ』 についてご紹介します。 短時間での処理が可能で、液安定性が良好な「パラジウムストリッパー2」を はじめ、素材や下地を侵しにくい「パラジウムストリッパー3000」を 各種ラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 <パラジウムストリッパー2> ■1分間に1~2μmの剥離が可能 ■短時間での処理が可能 ■液安定性良好 ■剥離後の再めっきで密着性良好 ■純パラジウムの他、パラジウム合金も剥離可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
ゼロエミッション対応の剥離剤(中性タイプ)!
『PURMS+Y』は、ドライフィルムレジストが溶解しないため、 剥離片をフィルターで回収し易い、中性タイプのレジスト剥離液です。 液のライフが長いので、メンテナンス時間を削減可能。 また、再生使用ができ、ゼロエミッションプロセスができます。 【特長】 ■リンス排水は生化学処理が可能 ■蒸気圧が低く、吸湿性が弱いので処理液の回収率が高い ■下地の金属にダメージを与えない など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
NMP、アミン不含有でAlやCu配線との高選択性を持つレジスト剥離液
NMPは生殖毒性が懸念され、作業者へ健康被害や環境への悪影響を考慮し、REACH規制では制限対象物質への指定や、TSCAではリスク管理規則案が公表され使用に関する規制が強くなっています。これら規制へ対応し、NMP代替として使用可能な超音波プロセス対応のレジスト剥離液をご用意しております。 【特徴】 ■被膜形成型の防食剤を含まず、配線材料であるCu、Alの防食性を有する。 ■NMPおよびアミン不含有 ■超音波プロセスに対応 ※詳細は弊社HP又は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた剥離性・溶解性を持つ剥離液!NMP、DMSO、TMAHフリーの環境配慮製品です。
『EZ(S)-Series』は、テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた 剥離性・溶解性を示す、半導体用テープ接着剤剥離液です。 接液材料(Cu、SiO2等)のダメージを与えず高選択性。NMP、DMSO、 TMAHフリーで、作業者の健康被害や環境への悪影響を考慮しました。 ダイシングテープやバックグラインドテープ剥離後の接着剤残渣の剥離と 溶解に適しています。 【特長】 ■テープ剥離後の接着剤残渣に対して優れた剥離性・溶解性を示す ■接液材料(Cu、SiO2等)のダメージを与えず高選択性 ■NMP、DMSO、TMAHフリー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
シアン化合物を含有しない金、銀、スズの剥離液「ダインストリップ」
ノンシアン化のパイオニアである大和化成は、金、銀、スズの剥離液のノンシアンを実現しています。 浸漬タイプ、電解タイプのラインナップがあり、ご要望の仕様に対応できます。 ◆金剥離液(ダインゴールドストリップ) ・ニッケル、SUS素地をほとんど浸食することなく剥離可能 ・毒劇物非該当 ◆銀剥離液(ダインシルバーストリップ) ・ニッケル、SUS素地をほとんど浸食することなく剥離が可能 ・毒劇物非該当 ◆スズ剥離液(ソルダーリップ) ・スズ、スズ合金めっき皮膜の剥離に最適 ・金属間化合物も剥離可能 ・短時間で剥離可能なため、同基板の損傷はほぼ無し ・フッ化物、過酸化物非該当
苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適!
『アンラスト RMO-C』は、高温使用が可能の為、剥離性に優れている 塗装剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに3~7%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適!液性が中性の為、素材を選びません
『アンラスト CA』は、各種被膜を剥離する中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適!有機アルカリタイプ
『アンラスト M11』は、アルミ等にも対応可能な塗装剥離液です。 有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶/200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を防止!
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。